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            真空等離子清洗機活化處理系統(tǒng)的特點和優(yōu)點

            閱讀:2885        發(fā)布時間:2018-5-18

            等離子清洗機由高質(zhì)量的陽極氧化鋁和陶瓷夾具構(gòu)成,具有出色的耐久性,經(jīng)濟實惠的反應(yīng)離子蝕刻在緊湊的臺式配置中,各向異性反應(yīng)離子蝕刻等離子體系統(tǒng)是*獨立的.

            等離子體限制環(huán)將等離子體直接聚焦在晶片上,以加速蝕刻,提供均勻的等離子體覆蓋,并將等離子體隔離在晶片本身上,而不是隔離其周圍或周圍的區(qū)域。過程溫度可以保持較低,因為增加了蝕刻速率的能力,而不需要增加電極溫度或增加夾頭的偏置。該環(huán)由絕緣的非導(dǎo)電材料制成,而鋁到鋁等離子體傳導(dǎo)路徑被限制在晶片區(qū)域。環(huán)與膠帶和晶片框之間有2mm的間隙。由于沒有等離子體產(chǎn)生或等離子體到晶片和膠帶的底部,因此底切和分層被zui小化,并且晶片表面上沒有濺射或膠帶沉積。整個室容積減小到僅僅晶片上方的區(qū)域。R等離子體蝕刻系統(tǒng)專為先進的蝕刻應(yīng)用設(shè)計,例如:去除用于故障分析,去封裝和介電材料去除的中間膜,蝕刻氧化物,氮化物,聚酰亞胺,硅,金屬,ILED或IC器件制造,環(huán)氧樹脂去除; 光致抗蝕劑剝離和去除。

            經(jīng)濟實惠的反應(yīng)離子蝕刻在緊湊的臺式配置中,各向異性反應(yīng)離子蝕刻等離子體系統(tǒng)是*獨立的,需要zui小的工作臺面積。等離子體蝕刻機底盤也用作集成安全外殼,容納等離子體室,控制電子設(shè)備,13.56 MHz射頻發(fā)生器和自動匹配網(wǎng)絡(luò)(只有真空泵在系統(tǒng)外部)。通過互鎖的門或容易拆卸的面板提供維護通道。

            真空等離子清洗機由高質(zhì)量的陽極氧化鋁和陶瓷夾具構(gòu)成,具有出色的耐久性。等離子體室可以配置6“或8”電源電極,以適應(yīng)各種晶圓尺寸,零件,IC封裝和其他元件。

            用于故障分析或MEM和LED器件制造的高性能等離子體蝕刻,等離子蝕刻系統(tǒng)設(shè)計用于先進的蝕刻應(yīng)用,例如:去除用于故障分析,去封裝和介電材料去除的中間膜,蝕刻氧化物,氮化物,聚酰亞胺,硅,金屬,材料用于MEMS,LED或IC器件制造,環(huán)氧樹脂去除; 光致抗蝕劑剝離和去除。等離子體蝕刻機可以適應(yīng)各種工藝氣體,包括:Ar,O2,H2 /形成氣體,He,CF4和SF6。標(biāo)準(zhǔn)是2個電子質(zhì)量流量控制器,用于*氣體控制,另有2個可選項(共4個)。

            真空等離子清洗機活化處理系統(tǒng)的特點和優(yōu)點:

            1、觸摸屏控制和圖形用戶界面提供實時過程數(shù)據(jù)和反饋

            2、具有自動匹配網(wǎng)絡(luò)的13.56 MHz RF發(fā)生器提供出色的過程重復(fù)性

            3、集成在等離子體室內(nèi)的溫度控制回路可以控制

            4、可選的渦輪分子泵包裝和蝶閥壓力控制可用

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