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詳細介紹
JY-S100PLUS 是一款桌上型冷態(tài)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，標配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺，特別適用于各種表面形貌的非導(dǎo)電樣品在掃描電鏡成像中的高質(zhì)量鍍膜，也可滿足電極鍍膜，半導(dǎo)體等材料鍍膜的要求。
JY-S100 PLUS離子濺射儀（噴金儀）主要特性
通過新型高效低壓直流磁控頭進行“超冷"濺射，避免樣品表面受損；
對于近距離的樣品，新型磁控管設(shè)計可提供廣角覆蓋濺射；
用于泄氣、吹掃和排氣的獨立電磁閥設(shè)計，確保設(shè)備的快速運行；
噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氣壓影響，可得到一致的鍍膜速率和鍍膜效果。
可使用多種金屬靶材：Pt, Au, Au/Pd, Pt/Pd（Pt 靶為標配），靶材更換快速方便。
JY-S100 PLUS離子濺射儀（噴金儀）技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng) | |
| 靶材 | Pt 靶為標配，可選 Au，直徑 57mm x 0.1mm 厚 |
| 標配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺 | 旋轉(zhuǎn)速度：0~60rpm 連續(xù)可調(diào)，傾斜角度：-45°~ 45°連續(xù)可調(diào)； 不銹鋼腔體：直徑 120mm X 高 75mm； 觀察窗：直徑 120mm X 高 45mm； 標配旋轉(zhuǎn)臺直徑 40mm，可放 4 個標準樣品臺，其它規(guī)格可訂做；具有雙重鎖緊裝置，可確保樣品在旋轉(zhuǎn)傾斜時不會松動脫落。 |
| 濺射電流 | 微處理器控制，安全互鎖，電流 5~40mA |
| 濺射頭 | 新型低電壓磁控管設(shè)計，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護罩 |
| 計量表 | 真空： Atm ~ 3 Pa，電流：0~99mA |
控制方法 | 帶有“開始"“暫停"按鈕的微處理控制器（1－999s），自動抽氣、濺射、關(guān)機后自動放氣。 |
真空系統(tǒng) | |
| 抽氣速率 | 133L/MIN |
| 極限真空 | 0.05 Pa |
| 噪音 | 56dB |
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