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一代的TESCAN--場發(fā)射掃描電鏡給用戶帶來了的技術優(yōu)點（如改進的高性能電子設備使成像過程更快，快速掃描系統(tǒng)包括了動態(tài)與靜態(tài)圖像扭曲補償，有內(nèi)置的編程軟件等）...

S8000G是TESCAN新S8000系列掃描電鏡的第yi個新成員，是yi款超高分辨雙束FIB-SEM系統(tǒng)，它可以提供的圖像質(zhì)量，具有強大的擴展分析能力，并能以...

S8000 FE-SEM的優(yōu)點：?新yi代鏡筒內(nèi)電子加速、減速技術，保證了復雜樣品的低電壓高分辨觀測能力?*配置的靜電-電磁復合物鏡，物鏡無磁場外泄，實現(xiàn)磁性樣...

追求ji致性能！完成具挑戰(zhàn)性的納米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列掃描電鏡，目前包括：S8000型超高分辨場發(fā)射掃描電鏡和S8000G型鎵離...

RIE反應離子刻蝕采用模塊化設計，可滿足III/V半導體和Si加工工藝領域的的靈活應用。 SENTECH SI 591可應用于各種領域的蝕刻工藝中，能夠完成多種...

EVG810LT是一款主要用于Si-Si直接鍵合和SOI鍵合的預鍵合系統(tǒng)， 廣泛應用于MEMS制造、晶圓級良好封裝和SOI系統(tǒng)以及化合物半導體等方面。目前，可以...

EVG805DB是一款主要用于薄基片加工領域鍵合分離設備。廣泛應用于存儲器，CMOS，3D-TSV，功率器件（如IGBTs），化合物半導體（如高亮度LEDs或R...

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質(zhì)薄膜?？稍跇O低溫度下（ 100ºC）沉積高質(zhì)量SiO2, S...

EVG光刻機主要應用于半導體光電器件、功率器件、微波器件及微電子機械系統(tǒng)（MEMS）、硅片凸點、化合物半導體等領域，涵蓋了微納電子領域微米或亞微米級線條器件的圖...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；&#16...

納米壓印技術主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應；光子帶隙...

多用途的納米光刻系統(tǒng)eLINE Plus被廣泛用于大學和研究中心，該系統(tǒng)有很多多功能附件可供用戶選擇，滿足用戶對電子束光刻機多功能性的要求。除具有專業(yè)的電子束光...

PIONEERTM集成了電子束曝光及成像分析雙功能，是高校和科研人員的理想選擇。從理念上，PIONEERTwo是一個全新的*的設備，真正意義上實現(xiàn)了電子束曝光和...

通過參與好的端研究項目，通過和其他電子顯微鏡以及顯微分析的制造商的合作，TESCAN致力于持續(xù)不斷的改進產(chǎn)品以使其保持在微納技術創(chuàng)新解決方案領域內(nèi)的競爭力。本著...

原子力顯微鏡AFM應用：應用于科研和工業(yè)界各領域，涵蓋了聚合物材料表征，集成光路測量，材料力學性能表征，MEMS制造，金屬/合金/金屬蒸鍍的性質(zhì)研究，液晶材料性...

FERA3 XM是一款由計算機全控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場發(fā)射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統(tǒng) （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

FERA3 GM是一款由計算機*控制的Xe等離子聚焦離子束（i-FIB）場發(fā)射掃描電子顯微鏡，可選配氣體注入系統(tǒng) （GIS），可在高真空和低真空模式下工作，其具...

shi jie*個*集成式Xe等離子源聚焦離子束掃描電子顯微鏡----FERA3，提供了超高離子束束流（zui高束流為2µA），其濺射速度比Ga離子源...

OLS4500是一款集成了光學顯微鏡、激光顯微鏡和掃描探針掃描顯微鏡（SPM）功能于一體的新型納米檢測顯微鏡，可以實現(xiàn)從50倍到高100萬倍的超大范圍的觀察和測...

EVG500系列鍵合機主要應用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應...