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            北京亞科晨旭科技有限公司
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            EVG-850LT SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合
            • EVG-850LT  SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合

            貨物所在地:北京北京市

            地: 奧地利

            更新時間:2025-05-10 21:00:08

            瀏覽次數(shù):116

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            ( 聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

            EVG®850LT SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),適用于多種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用

            EVG®850 LT

            Automated Production Bonding System for SOI and Direct Wafer Bonding

            EVG®850LT   SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)

             

            自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),適用于多種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用

             

            晶圓鍵合是SOI晶圓制造工藝以及晶圓級3D集成的一項關(guān)鍵技術(shù)。借助用于機(jī)械對準(zhǔn)SOI的EVG850 LT自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)和具有LowTemp™等離子活化的直接晶圓鍵合,融合了熔合的所有基本步驟-從清潔,等離子活化和對準(zhǔn)到預(yù)鍵合和IR檢查-。因此,經(jīng)過實踐檢驗的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)EVG850 LT確保了高達(dá)300 mm尺寸的無空隙SOI晶片的高通量,高產(chǎn)量生產(chǎn)工藝。

             

            特征

            利用EVG的LowTemp™等離子激活技術(shù)進(jìn)行SOI和直接晶圓鍵合

            適用于各種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用       ;生產(chǎn)系統(tǒng)可在高通量,高產(chǎn)量環(huán)境中運(yùn)行

            盒到盒的自動操作(錯誤加載,SMIF或FOUP);         無污染的背面處理

            超音速和/或刷子清潔;                    ;   機(jī)械平整或缺口對齊的預(yù)粘合

            先進(jìn)的遠(yuǎn)程診斷技術(shù)數(shù)據(jù)

            晶圓直徑(基板尺寸)100-200、150-300毫米

            全自動盒帶到盒帶操作

            預(yù)粘接室

            對齊類型:平面到平面或凹口到凹口

            對準(zhǔn)精度:X和Y:±50 µm,θ:±0.1°

            結(jié)合力:5 N

            鍵合波起始位置:從晶圓邊緣到中心靈活

            真空系統(tǒng):9x10-2 mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3 mbar(渦輪泵選件)

            LowTemp™等離子激活模塊

            2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體:N2和O2,以及2種其他工藝氣體:高純度氣體(99.999%),稀有氣體(Ar,He,Ne等)和合成氣(N2,Ar和H4含量

            通用質(zhì)量流量控制器:多可對4種工藝氣體進(jìn)行自校準(zhǔn),可對配方進(jìn)行編程,流速可達(dá)到20.000 sccm

            真空系統(tǒng):9x10-2 mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3 mbar(渦輪泵選件),高頻RF發(fā)生器和匹

             

            配單元:清潔站;清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選);    腔室:由PP或PFA制成

            清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),NH4OH和H2O2(大)。 2%濃度(可選)

            旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成;

            旋轉(zhuǎn):3000 rpm(5 s)

            清潔臂:多5條介質(zhì)線(1個超音速系統(tǒng)使用2條線)

            可選功能:ISO 3迷你環(huán)境(根據(jù)ISO 14644);  LowTemp™等離子活化室

            紅外檢查站

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