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1112次應(yīng)用范圍：
1， 半導(dǎo)體制造工業(yè)
2， 設(shè)備應(yīng)用
A. 曝光顯影設(shè)備 (涂膠，顯影) 光刻加工程序的主要設(shè)備及掌控涂層，曝光，顯影。
B. 清洗、蝕刻設(shè)備 用于蝕刻，清洗，去膜設(shè)備。
C. 清洗設(shè)備 適用于 物理沖洗清潔、顆粒清洗刷子、聲控及噴霧工藝。
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