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            原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000
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            • 原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

            舉報(bào)
            貨物所在地: 浙江杭州市
            更新時(shí)間: 2025-01-03 18:35:31
            期: 2025年1月3日--2026年1月3日
            已獲點(diǎn)擊: 94
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            (聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

            產(chǎn)品簡介

            原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測核心,摒棄在尾氣氣路中檢測氣體分子的方法,實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。

            詳細(xì)介紹

            原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測核心,摒棄在尾氣氣路中檢測氣體分子的方法,實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。

            該儀器的工作原理和方法為世界Innovation for the first time,與傳統(tǒng)化學(xué)吸附分析儀相比,除了體積更小巧外,本儀器具有樣品消耗量少、質(zhì)量分辨率高、控溫范圍廣、分析速度快等優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于TPD、TPR、TPO等程序升溫分析測試。


            產(chǎn)品特點(diǎn)

            原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000


            應(yīng)用領(lǐng)域

            催化劑酸堿性

            氧化/還原性

            催化反應(yīng)

            金屬分散度

            競爭性吸附

            單點(diǎn)BET比表面積

            吸/脫附動(dòng)力學(xué)

            與光譜儀器聯(lián)用實(shí)現(xiàn)工況下原位實(shí)時(shí)表征


            應(yīng)用實(shí)例

            原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

            原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

            指標(biāo)名稱

            參數(shù)

            質(zhì)量變化測量與控溫

            Phoenix系列自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片

            樣品量

            1 pg ~ 30   ng

            質(zhì)量變化分辨率

            ≤1 pg

            溫度控制范圍

            -196℃ ~   1000℃

            溫度分辨率

            0.1℃

            溫度波動(dòng)

            ±0.3℃

            測量功能

            TPD、TPR、TPO、TPRx、金屬分散度、單點(diǎn)BET

            升溫速率

            0.02 ~   8000℃/s

            降溫速率

            0.02 ~   4000℃/s

            測量氣體

            全防腐設(shè)計(jì),可通腐蝕性氣體

            同時(shí)測試數(shù)

            雙通道

            聯(lián)用

            可與光學(xué)顯微鏡、顯微拉曼光譜儀、顯微紅外光譜儀等聯(lián)用

            額定功率

            50W

            主機(jī)尺寸(寬xx, cm

            45 x 34 x   29



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