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加氫反應裝置具備反應系統(tǒng)，加熱系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，氣體進料系統(tǒng)，液體進料系統(tǒng)，反應釜全容積為100毫升，加熱方式為電加熱，在線數(shù)據(jù)采集記錄保存，采集對象：反應釜內(nèi)部溫度，加熱爐溫度，反應釜內(nèi)部壓力，攪拌速度，控制進料流量，進氣流量。
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主要參數(shù)及技術說明
反應釜結構：間歇式；釜蓋密封形式：O型圈密封；攪拌密封形式：磁耦合密封；反應釜全容積：100ml；反應釜用才（釜體釜蓋）：哈氏合金C276；管閥件316L不銹鋼；用戶操作溫度：200℃；反應釜設計溫度：250℃；用戶操作壓力：30bar；反應釜最高使用壓力：100bar；加熱方式：電加熱；溫度控制：正負1℃以內(nèi)（物料無強放熱吸熱的情況下）；攪拌形式：自吸推進攪拌
裝置整體包括反應單元、加熱單元和控制單元。
反應單元100ml反應釜釜蓋固定，釜體電動升降，釜體電加熱，加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層，上出料，釜蓋配備2個氣相閥門，1個液相閥，1個安全爆破片，1個機械測壓表，1個壓力傳感器，1個溫度傳感器，1個磁耦合攪拌器，1套氣體質量流量計
加熱單元，加熱采用電加熱，加熱爐包裹反應釜體，靠熱傳導輻射給反應釜內(nèi)部物料加熱，加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層。
控制單元，溫度控制：主控物料溫度，反應釜內(nèi)物料無強放熱吸熱情況下可將物料溫控控制在正負1℃
攪拌控制：磁耦合攪拌轉速控制范圍200~1000r/min，攪拌轉速控制誤差為0~5r/min。升降控制：可控制加熱爐和反應釜釜體勻速上升下降，上下設有光電開關，防止上升下降過多
數(shù)據(jù)采集和保存：反應數(shù)據(jù)可采集記錄保存，包括反應溫度，加熱爐溫度，反應壓力，攪拌轉速，可在線設定加熱時間，攪拌時間。
