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            合肥康帕因設(shè)備技術(shù)有限公司
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            PECVD
            • PECVD

            貨物所在地:安徽合肥市

            地: 合肥

            更新時間:2024-12-14 21:00:07

            瀏覽次數(shù):157

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            PECVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設(shè)備置于移動柜上以節(jié)約空間。
            PECVD化學氣相沉積設(shè)備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設(shè)備置于移動柜上以節(jié)約空間。
              工作溫度:5~45?C
              zui大壓力:3x106 Pa
              精度: ±1.5% FS
              線性:±(0.5-1.5)%F.S
              重復精度: ±0.2%F.S.
              流量范圍:
              一路:1~199 SCCM
              二路:1~499 SCCM
              PECVD注意:其他流量范圍的可定制,需額外費用
            化學氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設(shè)備技術(shù)參數(shù)

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