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            廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司
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            標樂Buehler 金相制樣
            徠卡Leica 顯微鏡
            徠卡Leica 電鏡制樣
            威爾遜
            形創(chuàng) 三維掃描測量
            萊馳RETSCH 粉碎、研磨、篩分
            麥奇克萊馳MICROTRAC MRB 粒度粒形分析儀
            埃爾特ELTRA 碳 / 氫 / 氧 / 氮 / 硫元素分析儀
            卡博萊特蓋羅Carbolite Gero 高溫箱爐
            鼎竑離子減薄
            EM科特 臺式掃描電鏡
            美墨爾特
            微曠 高性能原位X射線CT
            英斯特朗Instron 力學(xué)測試
            業(yè)納 長度測量儀器
            島津Shimadzu 色譜
            島津Shimazu 元素分析與光譜儀
            島津Shimazu 表面分析
            島津Shimadzu 物理性分析
            島津Shimadzu 無損檢測
            TQC /SHEEN涂料測試
            其他設(shè)備
            金相切片耗材

            應(yīng)用案例 | 電鏡樣品制備之IC芯片

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            本文采用徠卡三離子束切割儀TIC 3X的旋轉(zhuǎn)拋光樣品臺制備IC芯片。文中樣品很好地說明了徠卡三離子束切割儀中旋轉(zhuǎn)拋光平臺的概念。即使遇到直徑達38 mm的樣品的時候,表面能處理的區(qū)域也能達到30 mm。離子束拋光程度如何取決于之前的機械拋光,因此建議在離子束拋光前的機械拋光盡量做得好一些,在50倍的光鏡下看不見劃痕為宜。

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