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            一文讀懂光學(xué)元件面型檢測(cè)報(bào)告

            閱讀:146      發(fā)布時(shí)間:2025-4-7
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            一文讀懂光學(xué)元件面型檢測(cè)報(bào)告,現(xiàn)代光學(xué)工程向一大一小兩個(gè)方向發(fā)展,“大"是指大口徑拼接技術(shù),離軸非球面技術(shù),往往應(yīng)用于大型望遠(yuǎn)鏡、空間望遠(yuǎn)鏡、慣性制約聚變(ICF)裝置?!靶?是指亞納米級(jí)高精度面型,低中高頻粗糙度,多應(yīng)用于DUV、EUV光刻設(shè)備。
             
            光學(xué)系統(tǒng)的研制需要高精度檢測(cè)技術(shù),高精度的檢測(cè)技術(shù)支撐著光學(xué)系統(tǒng)的確定性制造和集成,以及光學(xué)系統(tǒng)仿真技術(shù)。目前行業(yè)的準(zhǔn)則就是沒有檢測(cè)就沒有控制,更沒有確定性加工。
             
            我們?nèi)粘=佑|的光學(xué)元件性能參數(shù)中的面型規(guī)格有λ/4或者λ/10,這個(gè)參數(shù)是如何測(cè)定并且指代哪些具體的物理指標(biāo),今天通過本文中的一份面型檢測(cè)報(bào)告來解讀。

             


            目前行業(yè)內(nèi)的面型檢測(cè)干涉儀產(chǎn)品,主要是Nikon,Zeiss,和Zygo三個(gè)品牌。干涉儀的工作原理都是利用準(zhǔn)直光線照射標(biāo)準(zhǔn)參考面(平面,球面,非球面)和被測(cè)面(平面,球面,非球面)利用兩束反射光的干涉成像進(jìn)行檢測(cè),具體細(xì)節(jié)不再贅述。本文以Zygo的激光干涉儀為例說明面型檢測(cè)報(bào)告中的核心干貨。
             
            啟動(dòng)干涉儀的 MetroPro軟件,設(shè)置好測(cè)試程序(如顯示剖面線,3D模型,PSD,澤尼克系數(shù)等)后就可以啟動(dòng)檢測(cè),檢測(cè)報(bào)告頁面包含的信息有以下幾個(gè)方面。
             
            1. PV數(shù)據(jù)
            PV值代表被檢測(cè)表面上的最高點(diǎn)和低點(diǎn)之間的高度差。RMS為檢測(cè)區(qū)域內(nèi)N個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)的平方和除以N以后的開方值,稱為均方根。此元件被測(cè)面的PV值為62.32nm,rms值為8.295nm。
             
            2. 3D模型
            MetroPro軟件可以利用被測(cè)面的采樣數(shù)據(jù)點(diǎn)轉(zhuǎn)坐標(biāo),生成3D模型,直觀的表現(xiàn)出面型的凹凸特性。紅色為高點(diǎn),藍(lán)色為低點(diǎn)。
             
            3. PVr數(shù)據(jù)
            由于干涉儀中使用的探測(cè)器的空間分辨率不同,噪聲、鬼像條紋和亮點(diǎn)都會(huì)對(duì)它產(chǎn)生影響,僅用相機(jī)上的兩個(gè)點(diǎn)(峰谷)來表達(dá)測(cè)量結(jié)果可能不是很精確。PVr是一個(gè)新提出的穩(wěn)健振幅參數(shù),它的計(jì)算方法是36階Zernike擬合的PV值+ 3倍殘差的均方根值。此元件按照PVr參數(shù)計(jì)算的數(shù)值為45.98+3*2.97=54.9nm。
             
             
            4. XY軸剖面曲線圖
            在第一部分的PV數(shù)據(jù)圖中,被檢測(cè)面的X和Y坐標(biāo)軸的剖面數(shù)值曲線顯示在此圖中,綠色線表示X軸,藍(lán)色線表示Y軸。
             
            5. 干涉條紋圖
            這個(gè)干涉條紋就是被測(cè)面和基準(zhǔn)面的干涉條紋圖像,理想的干涉條紋應(yīng)該是等間距且平行,條紋的偏轉(zhuǎn)情況代表著被測(cè)面與基準(zhǔn)面的凹凸關(guān)系。
             
            除了小型標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件(直徑<100mm)的入庫質(zhì)檢,在大型光學(xué)元件的制造過程中,干涉儀還起到過程監(jiān)控的作用,由于大型光學(xué)元件材料比較昂貴,每道加工工序都要求嚴(yán)格控制。大型光學(xué)元件加工過程為粗磨、精磨和拋光這三道工序,粗磨和精磨工序需用三坐標(biāo)進(jìn)行外形尺寸測(cè)量,拋光工序主要用干涉儀監(jiān)測(cè)工作面面型。 
             
            聯(lián)合光科銷售的現(xiàn)貨標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件在入庫前,都會(huì)使用干涉儀檢查元件工作面是否符合面型規(guī)格要求,普通光學(xué)元件工作面面型精度不低于λ/4,高精度產(chǎn)品的工作面面型精度不低于λ/10,我們確保我們的現(xiàn)貨標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)產(chǎn)品符合標(biāo)稱面型指標(biāo)。



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