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            普敦科技>>公司動(dòng)態(tài)>>Proton氫氣發(fā)生器 MOCVD中*的好幫手

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            Proton氫氣發(fā)生器 MOCVD中*的好幫手

            閱讀:2907        發(fā)布時(shí)間:2018/12/10
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              MOCVD被稱為有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積法,就是以金屬有機(jī)物(如TMGa, TMAI, TMIn, TEGa 等)和烷類(如AsH3, PH3, NH3 等)為原料進(jìn)行化學(xué)氣相沉積生長(zhǎng)單晶薄膜的一種技術(shù),以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進(jìn)行氣相外延。金屬有機(jī)化合物大多是具有高蒸氣壓的液體,通過(guò)氫氣、氮?dú)饣蛘咂渌栊詺怏w作為載氣,將其攜帶出與烷類混合,再共同入反應(yīng)室高溫下發(fā)生反應(yīng)。

              氫氣在MOCVD中擔(dān)當(dāng)載氣,將III(II)金屬有機(jī)物和V(VI)族氫化物以及摻雜源攜帶運(yùn)輸?shù)椒磻?yīng)室內(nèi),為化學(xué)沉積反應(yīng)和薄膜生長(zhǎng)提供基礎(chǔ)。MOCVD要求氫氣純度≥99.999%(≥5N),進(jìn)口壓力為4-7bar,而Proton G4800和S系列氫氣發(fā)生器所產(chǎn)氫氣可以符合這一領(lǐng)域的用氣需求。

            Proton G4800

             

            Proton S20/S40

             

              其中,Proton G4800輸出氫氣的純度為99.9999%(6N),含水量小于1ppm,氫氣純度優(yōu)于MOCVD設(shè)備的要求,有利于提高半導(dǎo)體薄膜品質(zhì)和設(shè)備產(chǎn)出;同時(shí),氫氣純度穩(wěn)定不變,減少了氫氣純度波動(dòng)對(duì)設(shè)備的影響。

              另外,G4800和S系列氫氣發(fā)生器是現(xiàn)場(chǎng)制氫,發(fā)生器內(nèi)部氫氣儲(chǔ)藏量少。同時(shí),內(nèi)置可燃?xì)怏w探測(cè)器,一旦氫氣泄漏,發(fā)生器報(bào)警停機(jī),將降低氫氣的危險(xiǎn)系數(shù)。

              此外,該系列設(shè)備操作便捷,保障氫氣供應(yīng)連續(xù)不間斷,用戶無(wú)需擔(dān)心氫氣用完,也無(wú)需和高壓氣體鋼瓶接觸。發(fā)生器自動(dòng)運(yùn)行,無(wú)需額外人工操作;發(fā)生器自動(dòng)偵測(cè)自身工作狀態(tài)和錯(cuò)誤,一旦偵測(cè)異常,發(fā)生器報(bào)警。

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