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            上海淳麥生物科技有限公司

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            高靈敏ECL發(fā)光試劑1
            • 高靈敏ECL發(fā)光試劑1

            貨物所在地:上海上海市

            地: 上海

            更新時間:2025-03-18 21:00:08

            瀏覽次數(shù):123

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            ( 聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

            高靈敏ECL發(fā)光試劑產(chǎn)品組成:
            超敏ECL發(fā)光劑/增強劑,50ml
            超敏ECL過氧化物/穩(wěn)定劑,50ml

            高靈敏ECL發(fā)光試劑 Western Chemiluminescent HRP Substrate

            Cat No. KTSM1901

            簡介:
            本ECL試劑盒是基于魯米諾(luminol)的高靈敏底物體系,用于在免疫印跡實驗中檢測辣根過物氧化酶(HRP)。試劑盒中的增強劑使得本試劑盒能檢測fg至pg級抗原,背景干凈??梢允褂肵光片或化學(xué)發(fā)光成像儀進行檢測。由于本產(chǎn)品靈敏度高,檢測豐度高的抗原,如actin等時,應(yīng)適當(dāng)降低一抗及二抗的濃度。


            高靈敏ECL發(fā)光試劑運輸和保存條件:
            室溫運輸。收到試劑后請避光,4度保存。室溫保存時,底物可以穩(wěn)定保存6個月;4度保存時,可以保存1年以上。

            產(chǎn)品組成:
            超敏ECL發(fā)光劑/增強劑,50ml
            超敏ECL過氧化物/穩(wěn)定劑,50ml


            高靈敏ECL發(fā)光試劑注意事項:
            1. 為獲得結(jié)果,請優(yōu)化實驗條件,包括樣品,封閉試劑,洗滌液,一抗,二抗的選擇及孵育時間等。
            2. 在轉(zhuǎn)膜,封閉,洗滌及一抗二抗孵育過程中防止膜干掉。
            3. 為保證結(jié)果,請使用使用脫色搖床等設(shè)備,充分洗滌一抗二抗等。
            4. 由于抑制HRP的活性,請盡量避免使用,尤其在二抗孵育時,不能加疊。
            5. 與膜接觸時,請使用干凈的手套或鑷子,避免蛋白污染。
            6. 底物盡量現(xiàn)配現(xiàn)用。在室溫條件下,配制好的底物可以穩(wěn)定8小時。避免強光照射底物。短時間日光燈照射不影響配制好的底物的效果。


            高靈敏ECL發(fā)光試劑使用方法(X光片):
            1. 根據(jù)樣品中抗原的濃度及一抗的效價,用一抗孵育印跡膜室溫2小時或4度過夜。
            2. 充分洗滌后,二抗室溫孵育1小時。再充分洗滌后。
            3. 按需要量將發(fā)光劑和過氧化物按1:1比例充分混勻得到發(fā)光物工作液。按1平方厘米印跡膜0.1ml工作液準備。
            4. 棄去洗滌液,將工作液加到印跡膜上,孵育5分鐘。
            5. 將印跡膜取出,并吸去多余的工作液。
            6. 將印跡膜放置于兩層干凈的保鮮膜或塑料保護殼之間,去除其中的氣泡。
            7. 將印跡膜吸附蛋白的面向上放置,置于X光片盒中,在暗室內(nèi)壓上X光片適當(dāng)?shù)臅r間。進行顯影和定影。

            使用方法(化學(xué)發(fā)光成像儀):
            1. 第1-5步與X光片方法相同。
            2. 將印跡膜放置于成像儀的合適位置。
            3. 選擇信號累積模式采集信號。

            常見問題,可能原因及解決方案

            膠片反相(白色條帶,黑色背景)系統(tǒng)中HRP過量稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
            膜上出現(xiàn)棕色或黃色條帶
            暗室中看到強烈發(fā)光
            發(fā)光信號持續(xù)時間過短
            信號較弱或者無信號發(fā)光反應(yīng)系統(tǒng)中HRP過多,消耗底物過快,引起信號迅速降低稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
            抗原/抗體量不夠增加抗原/抗體使用量
            蛋白轉(zhuǎn)移率低優(yōu)化轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
            高背景系統(tǒng)中HRP過量稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
            封閉不足優(yōu)化封閉程序
            封閉試劑選擇不當(dāng)選擇另一種封閉試劑
            沖洗不充分增加沖洗時間,次數(shù)
            曝光過度減少曝光時間
            抗原/抗體濃度過高降低抗原/抗體使用濃度
            蛋白條帶為點狀蛋白轉(zhuǎn)移失敗優(yōu)化轉(zhuǎn)移過程
            膜未平衡按照說明書處理膜
            膠片與膜之間有氣泡曝光前去除所有氣泡
            出現(xiàn)非特異條帶
            (高背景、信號維持時間較短)
            系統(tǒng)中HRP過多稀釋HRP標(biāo)記物
            出現(xiàn)非特異條帶
            (背景干凈信號維持時間正常)
            一抗用量過多進一步稀釋一抗
            SDS導(dǎo)致非特異結(jié)合在實驗過程中避免使用SDS


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