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            鈍化產(chǎn)品CVD涂層特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)分析

            閱讀:2905      發(fā)布時(shí)間:2021-3-26
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            鈍化技術(shù)是以材料表面涂覆CVD涂層來實(shí)現(xiàn)的,CVD是一種通過化學(xué)氣相沉積的方法應(yīng)用于材料表面的技術(shù)。

             

             

            CVD(化學(xué)氣相沉積)是一種將揮發(fā)性前體(通常是在真空下)注入腔體內(nèi)的反應(yīng)過程,腔室加熱到反應(yīng)溫度,使前體氣體發(fā)生反應(yīng)或分解成所需的涂層并與材料表面結(jié)合。隨著時(shí)間推移,涂覆材料建立在表面上并在暴露部分的表面形成涂層。

            例如,如果想把硅附著在材料表面,需要使用三氯硅烷(SiHCl3)前體當(dāng)SiHCl3室加熱時(shí),分解和涂層反應(yīng)如下:

             

            SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl

             

            硅將結(jié)合到任何暴露的表面內(nèi)部和外部,而氯氣和鹽酸氣體將從腔室排放并根據(jù)適當(dāng)?shù)姆ㄒ?guī)要求進(jìn)行清除

             

             

            CVD涂層系統(tǒng)中使用的材料從硅化合物到碳化合物,到氟碳或有機(jī)氟,以及類似氮化鈦這樣的氮化物。一些材料如硅,可以通過摻雜表面改變或添加額外的化學(xué)物質(zhì)來進(jìn)一步增強(qiáng)涂層的功能,以達(dá)到特定的性能目標(biāo)。

            化學(xué)氣相沉積不同于物理氣相沉積PVD等其他常見的涂層應(yīng)用方法,與化學(xué)氣相沉積相比,大多數(shù)常見的涂層噴涂工藝會(huì)導(dǎo)致視線外盲區(qū)不均勻的涂覆存在,化學(xué)氣相沉積涂層理論上可以應(yīng)用于涂層氣體能進(jìn)入的任何區(qū)域,下圖形象表示出兩種涂覆的區(qū)別。

             


            SilcoTek®公司CVD涂層工藝的特點(diǎn)

            ·在高溫下應(yīng)用以促進(jìn)反應(yīng);

            ·涂裝前必須清除零件表面的污染物

            ·涂層氣體將覆蓋零件的所有區(qū)域,包括螺紋、盲孔和內(nèi)部表面;

            ·涂層在反應(yīng)過程中粘結(jié)到表面,與典型的PVD涂層相比,創(chuàng)造了*的附著力。

            SilcoTek®公司CVD涂層的優(yōu)勢(shì):

            ·可廣泛應(yīng)用于各種基材,包括金屬和金屬合金、陶瓷,玻璃;

            ·可噴涂精密表面和復(fù)雜表面,包括密封區(qū)域和內(nèi)部表面;

            ·能承受低溫、高溫溫度變化;

            ·持久的涂層與基材結(jié)合意味著涂層在高應(yīng)力環(huán)境中保持結(jié)合,即使基材表面彎曲也能適應(yīng)。 

            北京明尼克分析儀器設(shè)備中心全面代理美國SilcoTek®公司鈍化產(chǎn)品,長年備有鈍化產(chǎn)品現(xiàn)貨,同時(shí)承接硅鈍化表面處理技術(shù)定制服務(wù),在硅表面鈍化處理領(lǐng)域?yàn)槟峁┤矫嬷С峙c服務(wù)

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