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            Rt®-Q-BOND熔融石英PLOT柱
            • Rt®-Q-BOND熔融石英PLOT柱

            貨物所在地:北京北京市

            更新時(shí)間:2025-03-19 11:06:56

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            ? CO2 高保留性簡化了氣體分析;從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷(注意: 在室溫下O2/N2/CO不能被分離)
            ? 用于氧化化合物和溶劑的分析
            ? Z高溫度: 300 °C

             

            Rt®-Q-BOND熔融石英PLOT
            * 二乙烯基苯
            ·非極性 PLOT柱報(bào)告*二乙烯基苯。
            ·非常適合分析C1 C3的同分異構(gòu)體和直到C12的烷類
            · CO2 高保留性簡化了氣體分析;從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷注意:在室溫下O2/N2/CO不能被分離
            ·用于氧化化合物和溶劑的分析
            ·zui高溫度: 300 °C
             
            類似固定相:Supel-Q-PLOT, AT-Q, CP-PoraPLOT Q, PoraBond Q

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            內(nèi)徑
            厚度
            單位
            19764
            15m
            0.25mm
            8μm
            ea.
            19765
            30m
            0.25mm
            8μm
            ea.
            19743
            15m
            0.32mm
            10μm
            ea.
            19744
            30m
            0.32mm
            10μm
            ea.
            19741
            15m
            0.53mm
            20μm
            ea.
            19742
            30m
            0.53mm
            20μm
            ea.

            Showing 1 to 6 of 6 entries
             
            描述:
            Restek的化學(xué)家開發(fā)了一種新的多孔聚合物PLOT柱制造工藝。這種工藝包括將微粒吸附在柱壁上,所以幾乎沒有微粒的脫離現(xiàn)象。因?yàn)檫@種微粒與柱壁的吸附作用,使柱與柱在選擇和流失保持可重復(fù)性。
             
            ·非極性 PLOT柱報(bào)告*二乙烯基苯。
            ·非常適合分析C1 C3的同分異構(gòu)體和直到C12的烷類
            · CO2 高保留性簡化了氣體分析;從O2/N2/CO 中分離出CO2和甲烷注意:在室溫下O2/N2/CO不能被分離
            ·用于氧化化合物和溶劑的分析
            ·zui高溫度: 300 °C

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