清潔驗證程序旨在降低產(chǎn)品污染或生產(chǎn)設備上有殘留化合物的風險。在驗證清潔工藝時，必須證明該工藝始終能夠清除殘留產(chǎn)品、工藝污垢、潛在污染物、產(chǎn)品輔料等。還必須證明該工藝能夠清除清潔劑以及清潔劑的降解物。
兩種最常見的水質(zhì)清潔劑（即堿性清潔劑和酸性清潔劑）是清潔工藝的4個主要清潔要素之一。關鍵性的清潔要素通常包括時間、動作、濃度、溫度（簡稱TACT，即Time、Action、Concentration、Temperature），其中清潔劑的主要作用是為所有工藝污垢和產(chǎn)品污垢創(chuàng)造“降解"環(huán)境。由于污垢被降解，行業(yè)的常規(guī)做法是用總有機碳（TOC，Total Organic Carbon）分析法來分析化合物和清潔劑的去除情況。清潔劑通常含有少量的碳（5%至10%）。
過去數(shù)十年來，堿性清潔劑被用來清潔制藥、生物制藥、化妝品、醫(yī)療設備、食品補充劑、乳制品、食品飲料等行業(yè)的生產(chǎn)設備。TOC分析法是非?？煽康臏y量方法，用來測量和控制清潔要素（TACT）所發(fā)揮的作用。具體地說，TOC分析法可以測量被清潔的生產(chǎn)設備表面上的有機物殘留量。
測量TOC的分析技術(shù)，無非是將樣品中的有機分子氧化成二氧化碳（CO2），然后測量CO2濃度，并將其轉(zhuǎn)換為碳濃度?？梢杂煤芏喾N實驗室或在線技術(shù)來測量TOC。
創(chuàng)新的Sievers膜電導檢測法是極為可靠的TOC測量技術(shù)。該技術(shù)使用透氣膜，選擇性地僅使有機物氧化所產(chǎn)生的CO2通過薄膜。Sievers膜電導檢測法使酸、堿、鹵代物等化合物無法干擾對有機物氧化所產(chǎn)生的CO2的測量，從而提供測量靈敏度、選擇性、穩(wěn)定性、準確性、精確性。
Sievers膜電導TOC檢測技術(shù)
在用Sievers TOC分析儀來測試堿性清潔劑的回收率時，我們制備了多種濃度的儲備溶液，濃度范圍在300 ppb C至5 ppm C之間。這是按照ICH Q2（R1）的建議進行的。ICH Q2（R1）強調(diào)，在方法驗證時，應分析至少5種濃度，以完成線性測試、確定準確性和精確性。
制備100 ppm C儲備溶液：
精確稱量1.08 mL的堿性清潔劑，放進清潔的、沖洗過的、干燥的500 mL容量的玻璃瓶中。用低TOC水（濃度小于50 ppb C）稀釋瓶中的清潔劑至一定體積。對其中3份0.01%的堿性清潔劑稀釋液進行初步分析，得出清潔劑的含碳約為4.6%（質(zhì)量比）。用轉(zhuǎn)換系數(shù)得到100 ppm C的儲備溶液。該儲備溶液用于5 ppm C、3 ppm C、1 ppm C、0.5 ppm C、0.3 ppm C加標。
表1用于準確稀釋100 mL容量瓶中的儲備溶液。我們在分析時建立了4組樣品瓶（共20個樣品瓶）。其中一組樣品瓶用于線性測試，其余樣品瓶用于確定百分比回收率、準確性、批次內(nèi)精確性，如ICH Q2（R1）中所述。
表1: 樣品瓶的儲備溶液的準確體積
然后分析制備好的清潔劑測試標準液的TOC含量。對每個樣品瓶重復分析5次，舍棄第一次分析結(jié)果。計算平均值、標準偏差、百分比相對標準偏差（%RSD）。記錄用于制備儲備溶液的空白水的平均值，并將其代入最終結(jié)果的計算中。用空白值減去測試標準液結(jié)果的水背景值。
線性測試結(jié)果
TOC空白=18 ppb C
百分比回收率
TOC空白=17 ppb C
此項研究的結(jié)果表明，可以用Sievers分析儀和TOC分析法來分析堿性清潔劑中的有機碳含量。分析結(jié)果顯示，此分析方法在0.3至5 ppm C范圍內(nèi)非常靈敏，且為線性分布，R2值為0.999。相對標準偏差小于3%，平均回收率在87%至101%之間，因此具有高的準確性和精確性。檢測限基于對用于制備儲備溶液的試劑水的重復測量結(jié)果。分析物的檢測限確定為9.4 ppb C。
TOC分析法是檢測清潔劑和殘留產(chǎn)品的有效方法，用于監(jiān)測清潔工藝、降低總體風險。Sievers分析儀為您在清潔驗證和確認方面的所有需求，提供完整的TOC解決方案、服務與支持。
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