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技術(shù)文章
德國hellma 晶體材料 氟化鈣晶體技術(shù)參數(shù)
閱讀：815 發(fā)布時(shí)間：2024-1-8Hellma Materials和CVD Ceramics是高品質(zhì)晶體和陶瓷光學(xué)材料的制造商，為各行各業(yè)提供服務(wù)。其中包括微光刻、光學(xué)、激光技術(shù)和輻射檢測。憑借長期的技術(shù)專長和對(duì)客戶需求的高度關(guān)注，我們產(chǎn)品的認(rèn)可和始終如一的質(zhì)量使我們能夠成為越來越多的滿意客戶的可靠供應(yīng)商。
氟化鈣晶體
閃爍晶體
氟化晶體
CVD 硫@化鋅Cleartran®
激光晶體
CVD硒化@鋅
氟化鈣晶體
用于UV/VIS/IR應(yīng)用的光學(xué)材料
多年來，Hellma Materials CaF2 一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF2 的光學(xué)特性使各種高級(jí)應(yīng)用成為可能。
應(yīng)用
由于其的光學(xué)質(zhì)量和在紫外、可見分光光度計(jì)和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多種應(yīng)用：
紅外光學(xué)器件
用于天文儀器的光學(xué)元件
天基光學(xué)器件
顯微鏡光學(xué)元件
光譜光學(xué)
紫外光學(xué)
激光窗口
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件
顯微光刻光學(xué)器件
優(yōu)勢
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有的光學(xué)特性：
從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm 至 8μm）
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
合格的高能粒子和輻射耐受性
直徑可達(dá) 420mm
氟化鋇VIS/IR光學(xué)材料
Hellma Materials BaF2 在高達(dá) 12μm 的可見光和紅外光譜范圍內(nèi)具有出色的透射率。
這允許在可見光和紅外雙通道系統(tǒng)中將 BaF2 用作寬帶光學(xué)材料，用于可見光和熱成像。
BaF2 的折射率低于許多其他光學(xué)材料。這減少了由菲涅耳反射引起的傳輸損耗。
應(yīng)用
Hellma Materials BaF2 是一種出色的光學(xué)材料，適用于可見光和紅外光譜范圍的寬光譜范圍。這使得在復(fù)雜的應(yīng)用中得以利用：
集成VIS通道的熱成像和夜視
用于天文儀器的光學(xué)元件
紅外激光光學(xué)器件
用于檢測高能γ輻射>5Me的閃爍體
優(yōu)勢
Hellma Materials BaF2 是一種的光學(xué)材料：
可見光透射率高，紅外范圍擴(kuò)展至12μm
低折射率 （nd = 1.47447）
低光譜色散 （vd = 81.61）
直徑可達(dá) 360 mm