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            首頁>>鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>視頻展示>>小型濺射儀>>小型濺射儀工藝管理與編輯

            小型濺射儀工藝管理與編輯
            發(fā)布時(shí)間:2021-03-31 播放次數(shù)318次
            視頻簡(jiǎn)介

                  KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。

                通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

            控制方式

            7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

            濺射電源

            直流濺射電源

            鍍膜功能

            0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

            最大功率

            ≤1000W

            最大輸出電壓電流

            電壓≤1000V  電流≤1A

            極限真空

            機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

            濺射真空

            ≤10Pa

            擋板類型

            電控

            真空腔室

            石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

            樣品臺(tái)

            可旋轉(zhuǎn)φ62  (最大可安裝φ50基底)

            樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

            8轉(zhuǎn)/分鐘

            樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

            40-105mm

            真空測(cè)量

            皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

            預(yù)留真空接口

            KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口

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