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MRC-實驗室設備
30 多年來，MRC 一直為全球 70 多個國家/地區(qū)開發(fā)、制造和供應實驗室設備。自 2001 年以來，MRC 質(zhì)量管理體系已通過 ISO 9001 正式認證，符合質(zhì)量要求。我們在實驗室產(chǎn)品供應方面的專業(yè)知識得到了我們合格且經(jīng)驗豐富的服務團隊的支持。
種類繁多的實驗室設備
MRC實驗室技術為研發(fā)中的眾多應用提供了廣泛的創(chuàng)新設備。MRC 成熟的技術，用于我們專門開發(fā)的加熱設備和溫度控制產(chǎn)品，例如用于混合、振蕩、生長、測試和破碎應用的加熱板、循環(huán)器、浴槽和冷卻器。MRC還憑借我們創(chuàng)新的振蕩培養(yǎng)箱、烤箱、濕度室、冷卻器、振蕩器、均質(zhì)機、研磨機、冰箱、旋轉蒸發(fā)器、離心機、實驗室天平，在世界市場上獲得了一定的行業(yè)地位。
旋涂機
旋涂是一種廣泛使用且用途廣泛的技術，用于將材料沉積到具有準確且可控的膜厚的基材上，用于微觀或光譜研究。旋涂利用溶液的向心力和表面張力來形成均勻的薄膜，使其比其他薄膜涂層方法更快。旋涂是研究和工業(yè)環(huán)境中批處理的理想選擇。旋涂廣泛用于使用溶膠-凝膠前驅體在玻璃或單晶基板上對功能性氧化層進行微納加工，可用于制造具有納米級厚度的均勻薄膜。
旋涂機如何工作？
在旋涂中，當液體從基材的末端旋轉時，旋轉會繼續(xù)，直到達到所需的膜厚。所施加的溶劑通常是揮發(fā)性的，并同時蒸發(fā)。
MRC提供各種優(yōu)質(zhì)的旋涂機供使用。所有旋涂機都是高質(zhì)量的產(chǎn)品- 查看目錄。
什么是旋涂？
旋涂的方法經(jīng)常用于表面上做薄涂層。在這種方法中，每當物質(zhì)和溶劑的溶液高速旋轉時，在向心力和液體表面張力的結合下，就會形成均勻的涂層。通過旋涂，在剩余的溶劑蒸發(fā)后產(chǎn)生大約幾納米和幾微米厚的薄層。
旋涂被廣泛使用，并有多種用途。該工藝可用于覆蓋小至幾平方毫米的表面，直至直徑為一米或更大的平板顯示器。
與其他方法相比，旋涂的主要優(yōu)點是它能夠快速輕松地制造均勻的涂層。該技術用于多個業(yè)務和技術領域。
工作原理分為幾個步驟：
沉積：使用移液管將基質(zhì)澆注到溶液上。離心運動將溶液分布在整個基材中，盡管基材處于動態(tài)或靜態(tài)旋涂中。
旋轉：在以較低速度或快速展開步驟后，基板達到適當?shù)男D速度。在此階段，大部分溶液現(xiàn)在從基材中排出。一旦阻力平衡旋轉加速度并導致旋轉速度匹配，流體就會變得水平。
衍生：現(xiàn)在粘性力占主導地位，流體開始變稀。由于干涉效應，通常，當液體被甩掉時，薄膜的顏色會發(fā)生變化。顏色停止后，薄膜幾乎干燥。
蒸發(fā)：流體流出停止后，發(fā)生溶劑蒸發(fā)。揮發(fā)性、蒸氣壓和環(huán)境條件是溶劑蒸發(fā)速率所依賴的幾個因素。
旋涂的用途：
它用于涂覆具有以下特征的表面：
- 合成金屬
- 納米材料
- 有機半導體
- 光敏電阻
-絕緣 子
- 金屬和金屬氧化物前驅體
- 透明導電氧化物
其他幾種物質(zhì)也用于旋涂。
旋涂技術的類型：
動態(tài)點膠旋涂技術：在應用過程中，使用移液器使用動態(tài)點膠旋涂布來分配一致數(shù)量的涂層。物體旋轉，直到達到必要的轉速。然后盡可能靠近基材中心施加整個涂層。速度和離心力有助于保證旋涂的一致性。通過此程序，可以同時涂覆整個涂層。
靜態(tài)點膠旋涂技術：一般來說，特殊情況下需要將紡絲速度降低到動態(tài)點膠旋涂方法所需的速度以下。在開始紡絲過程之前，應使用此程序將整個涂層基材涂覆到所需的材料上。在將涂層涂覆到材料上后，紡絲過程開始，通常比動態(tài)點膠方法慢。
旋涂機 - 緊湊型真空吸盤
腔室尺寸 200mm 大樣品 10mm-100mm 速度范圍 100~9999rpm可調(diào)
加速速度 100~9999rpm/s
速度分辨率 1rpm
速度精度 < 鹵 5rpm 控制 5組可編程
控制，每組5級
電機功率 無刷直流電機 75w
工作電壓 AC 110-220V， 50Hz
外形尺寸 250*210*200mm
包括： 真空泵
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