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RITG142直線加速器質控軟件詳細介紹：

TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個基于圖像的測試的單一供應商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件，自信而輕松地對直線加速器進行全面的質量保證。

RITG142質控軟件，TG142分析軟件是機器 QA、MLC QA、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢分析的一體化解決方案，您需要符合 TG-142 和醫(yī)學物理學實用指南 （MPPG） 8.b 的全面 LINAC QA。此外，成像 QA 模型通過易于使用的跟蹤和趨勢分析功能自動評分。

機器質量保證

RITG142直線加速器質控軟件LINAC 的每日、每月和年度機器 QA

增強型 3D Winston-Lutz（等中心優(yōu)化）和 Virtual Star Shot*

自動處理一組 EPID Winston-Lutz 圖像，以快速準確地測量等中心位置。RIT 版本的此測試允許您使用 3 到 16 張圖像，并為球設置和圍繞等中心擺動提供誤差估計。增加的角度靈活性使您能夠模擬更多臨床相關的角度，以確定特定治療配置下的等中心。*美國zhun利9192784、JP Patent 6009705、CA Patent 2918045和其他正在申請的國際zhuan利。

立體定向對準 （2D Winston-Lutz） 測試

立體定向錐形輪廓

字段對齊

光束測量

輻射/光場重合

EPID圖像可以在沒有校準文件的情況下進行分析，并具有自定義的視場大小。中心位置可以通過采取

BB、針刺或使用 L-Rad Phantom。

全自動星形分析

非對稱場/匹配線

深度劑量、交叉和正交剖面

電子能 （TG-25）

圖像直方圖

等劑量輪廓

3D 劑量曲線

快速平整度和對稱性

水箱梁測量分析

導入斷層放療®校準文件

斷層放療®是 Accuray， Inc. 的注冊商標

MLC質量保證

Varian LINAC

EPID糾察柵欄測試

此例程可自動執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測試。

自動化瓦里安 RapidArc®測試

可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像。這包括：測試 0.1、0.2、1.1、1.2、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型。

瓦里安葉速試驗

在不使用日志文件的情況下，該測試可測量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動時的一致性和準確性。

瓦里安·哈爾西恩®MLC分析

執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC

Elekta LINAC

漢考克對醫(yī)科達機器的測試

漢考克測試（2 圖像測試、4 圖像測試和帶備用鉗口測試）使用 Elekta iView™ 成像儀自動測量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測量值。

EPID糾察柵欄測試

此例程可自動執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測試。

醫(yī)科達葉速測試

此測試對齊兩張圖像，以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。

其他 MLC 測試

Bayouth MLC分析

分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC。

其他 MLC 測試

其中包括：TG-50 糾察柵欄測試、MSK 葉片測試、瓦里安 DMLC 測試模式和 MLC 傳輸分析。

成像 QA

EPID QC模塊

RIT長子

（EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。 這些測試包括：5 個區(qū)域的穩(wěn)定性、分辨率 （MTF）、幾何失真、均勻性、對比度和噪點。

PTW電子元

拉斯維加斯EPID

標準成像 QC-3

卡坦®、kV 和錐形梁模塊

瓦里安 504 CATPHAN

瓦里安 604 CATPHAN

醫(yī)科達 503 CATPHAN

西門子圖像質量 Phantom

DR/CR kV模塊

IBA Primus（IBA普里姆斯酒店）®L

PTW 諾米®4

（20x20厘米和30x30厘米）

利茲 TOR-18 FG

標準成像 QC-kV1

kV/MV模塊

標準成像 ISOCube

五角星指南

基本模塊

DICOM圖像查看器

DICOM 標簽查看器

圖像導入：DICOM 目錄瀏覽器、打開目錄瀏覽器、DICOM 文件過濾器

手動測量：距離、角度、輪廓、直方圖、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出

輸出格式：打印、PDF 導出、帶有自定義模板的 Excel 導出

監(jiān)控圖像質量

圖像傳輸

自定義公差管理

使用公差管理器為所有自動模型分析中使用的每個測量設置公差值和通過/失敗標準。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性：

在易于使用的面板中方便地設置和切換公差，該面板位于主界面中，并顯示在每個模型分析例程中。

為分析及其相應報告設置自己的通過/失敗標準，允許在所有成像 QA 分析中進行wan全定制。

偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺機器設置的。它們可以針對使用中的每臺機器進行精確定制。

將所有通過/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)?/span>RIT趨勢數(shù)據(jù)庫，以進行統(tǒng)計跟蹤和趨勢™分析

其他測量

用于 QA 的電影劑量測定

放射致變色和放射致變色膠片，配備Vidar和平板掃描儀

平板非均勻性校正

放射致變色膠片均勻性校正

用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準

通用映像文件導入

Vidar 掃描儀接口（Vidar 掃描儀控制中心）

校準

MLC標定技術
zhuan利：EP 1318857、CA 2418232、JP 3817176、US 6675116、US 6934653 和 US 7013228。

用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準

垂直劑量校準

校準文件合并

EPID 質量保證

導入用于 QA 的 EPID 映像

縮放瓦里安 EPID 的 DICOM 圖像

一般特征

圖像合成器

DICOM 匿名器

針刺、擦除和 ROI 工具

每個分析程序的 PDF 報告

基于云的軟件許可