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納米加工選用電子束光刻的參數(shù)
閱讀：1631 發(fā)布時(shí)間：2022-5-24
企業(yè)介紹：Raith 是納米加工、電子束光刻、FIB SEM 納米加工、納米工程和逆向工程應(yīng)用的精密技術(shù)制造商。
客戶包括涉及納米技術(shù)研究和材料科學(xué)各個(gè)領(lǐng)域的和其他組織，以及將納米技術(shù)用于特定產(chǎn)品應(yīng)用或生產(chǎn)化合物半導(dǎo)體的工業(yè)和中型企業(yè)。
Raith 成立于 1980 年，總部位于德國多特蒙德，擁有 250 多名員工
英國raith電子束光刻應(yīng)用：化合物半導(dǎo)體器件
光電
衍射光學(xué)元件
集成電路分析
納米科學(xué)
微工程和納米工程
量子技術(shù)
納米光子學(xué)
英國raith電子束光刻產(chǎn)品：
電子束光刻系統(tǒng)
EBL系統(tǒng)
FIB-SEM系統(tǒng)
大面積SEM成像
納米光刻升級(jí)套件
無掩模激光光刻系統(tǒng)
英國raith電子束光刻產(chǎn)品型號(hào)：
EBPG Plus
VOYAGER
Raith150
eLINE Plus
PIONEER Two
英國raith電子束光刻產(chǎn)品描述：
具有分辨率和熱屏蔽的電子束寫入器
RAITH150 Two 已成為通用高分辨率電子束光刻系統(tǒng)的產(chǎn)品。它在的研究和納米技術(shù)得到應(yīng)用，并已證明其在24/7 全天候使用中的穩(wěn)健性。RAITH150 兩電子束寫入器旨在幫助從面向單一器件的研究向小批量納米器件制造的過渡，從而彌合學(xué)術(shù)和工業(yè)研發(fā)之間在工業(yè)設(shè)備原型設(shè)計(jì)方面的差距應(yīng)用程序。
·
產(chǎn)品屬性
分辨率電子束光刻
·自動(dòng)晶圓級(jí)電子束寫入
·30 kV Gemini 柱技術(shù)
·低電壓曝光和成像
·隔熱罩，和
·*的分室設(shè)置，
RAITH150 Two 可以曝光小于 5 nm的結(jié)構(gòu)，適用于從幾毫米到8 英寸晶圓的樣品尺寸。
憑借其低 kV 成像能力，RAITH150 兩電子束寫入器還允許對(duì)表面敏感的高分辨率檢測和過程控制。利用 SEM 成像和尺寸計(jì)量的所有軟件功能，可以使用與器件制造相同的工具有效地縮短器件優(yōu)化過程。
特點(diǎn)：
線寬
數(shù)字模式發(fā)生器
樣品處理
≤8納米
20兆赫