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可以在不損失平行度的情況下進行樣品拋光設(shè)備Rana-3介紹
閱讀：631 發(fā)布時間：2024-4-27可以在不損失平行度的情況下進行樣品拋光設(shè)備Rana-3介紹
Rana-3采用單獨加載方式，允許您自由設(shè)置1到6個樣本。
由于保持架的轉(zhuǎn)速可以改變，因此保持架和圓盤可以以相同的轉(zhuǎn)速進行拋光，并且拋光表面不會變得傾斜或鉛筆狀。
支架和圓盤均可向前或向后旋轉(zhuǎn)。
主要特點
可以在不損失平行度的情況下進行磨削！推薦的拋光理論指出，通過以相同的速度和方向旋轉(zhuǎn)支架和盤，可以在不損失工件平行度的情況下進行磨削。
Rana-3允許您改變刀柄的旋轉(zhuǎn)速度，因此可以通過沿相同方向和相同次數(shù)旋轉(zhuǎn)而在不失去平行度的情況下進行磨削。
此外，拋光盤和支架都可以反向旋轉(zhuǎn)，因此即使是左撇子用戶也可以輕松進行手動拋光。粗拋光 砂紙或拋光墊
盤轉(zhuǎn)速200rpm/支架200rpm
精拋鉆石+拋光布
盤轉(zhuǎn)速50-150rpm/支架50-150rpm
壓力可以在設(shè)定的秒數(shù)內(nèi)自動增加或減少！配備自動增減功能，對樣品加壓。
可以輸入從開始到設(shè)定秒數(shù)逐漸增加的壓力。
可以通過設(shè)置秒數(shù)來輸入設(shè)置以逐漸增加或減少壓力。拋光條件（壓力/轉(zhuǎn)速）可以分3個階段變化！在一次拋光過程中可以輸入和改變?nèi)竭\動。（ABC設(shè)置）
對于脆性材料或鋒利邊緣的樣品，可以從低壓、低轉(zhuǎn)速開始操作，逐漸改為高壓、高轉(zhuǎn)速。內(nèi)存可儲存16種拋光條件！最多可記錄 16 種拋光條件。
當(dāng)需要制備多個樣品時，可以記住每個樣品的處理條件，從而實現(xiàn)高效工作。
| 電源 | 單相100V或單相200-220V 三相200-220V |
|---|---|
| 尺寸/重量 | W450 x D705（至排水口）x H500（頭部抬起時為630）mm，65kg |
拋光工段
| 光盤尺寸 | 拋光盤：Φ250mm 鋁質(zhì)拋光盤：Φ250mm 磁面盤：Φ250mm * 拋光盤單獨出售 |
|---|---|
| 盤轉(zhuǎn)速 | 50 至 400 rpm（可在正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)之間切換） |
| 電機輸出 | 400W（100/200V：減速電機） |
| 手術(shù) | （防水）觸摸屏，帶緊急停止按鈕 （數(shù)字式）帶定時器自動停止 可存儲16個拋光條件 ABC設(shè)置（*可分3階段設(shè)置拋光條件） |
| 給排水功能 | 用供水旋塞打開/關(guān)閉（帶供水/排水軟管） |
樣品旋轉(zhuǎn)部分
| 支架旋轉(zhuǎn) | 50 至 200 rpm（可在正轉(zhuǎn)和反轉(zhuǎn)之間切換） |
|---|---|
| 電機輸出 | 120W無刷電機 |
| 樣品數(shù)量 | 1～6個任意選擇 *φ50mm最多3個 |
| 樣品架 | Φ25mm、30mm、40mm x 6 個、Φ50mm x 3 個 *定制尺寸支架和特殊夾具需咨詢 *支架單獨出售 |
| 壓力 | 1 個樣品 10 至 50N |
| 潤滑器 | 標準附件（模擬流量調(diào)節(jié)型） |
| 氣源 | 0.5~0.7Mpa *0.7Mpa以上需另配調(diào)節(jié)器 |