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            CPS納米粒度分析儀差示離心沉降原理帶來的優(yōu)勢(shì)

            閱讀:903      發(fā)布時(shí)間:2021-6-3
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              CPS納米粒度分析儀,有別于傳統(tǒng)方法,通過差示離心沉降原理為顆粒的精細(xì)區(qū)分提供新的解決方案
             
              這種原理有以下幾點(diǎn)優(yōu)勢(shì):
             
              分辨率高:
             
              同激光散射和顆粒計(jì)數(shù)法等方法比較,該方法有非常高的分辨率。對(duì)于只有 1%的顆粒差異分布的時(shí)候,該方法測(cè)定的結(jié)果仍然有好的分離效果。您能看到的是顆粒分布本身,而不是分布顆粒的混合圖。
             
              靈敏度高:
             
              低至 10-8 g 的樣品就可以滿足日常分析需要。
             
              重復(fù)性高:
             
              樣品結(jié)果在95%的典型置信度下,連續(xù)重復(fù)分析峰的重復(fù)性小 于+/-1% 或更好。
             
              快速、高精度數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換:
             
              可用信號(hào)分辨率(即軟件操作的對(duì)象)決定于  數(shù)模轉(zhuǎn)換的過程。CPS系統(tǒng)使用的數(shù)模  轉(zhuǎn)換  可以實(shí)現(xiàn)在每秒31次取樣時(shí)保持20位以上的精  度,幾百萬(wàn)分之一的誤差。

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