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富士工業(yè)超聲波濃度計
超聲波液體濃度計單成分用
半導(dǎo)體制造用
FUD-1Model-13
測量原理
超聲波在液體中非常易于傳播。
超聲波在溶液中傳播的速度受溶液的濃度和溫度影響。
「濃度變化」→「密度變化」→「音速變化」
本產(chǎn)品利用超聲波的特性，高精度的測量溶液的濃度。
測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示
可根據(jù)檢量線的交換測量各種半導(dǎo)體藥液的濃度。
發(fā)信器小型、輕量，可直接在線裝置。
免保養(yǎng)設(shè)計。
接液部分全部采用（PFA)材料。
小型輸出設(shè)計，對藥液沒有影響。
單成分濃度計的特點
實時濃度測量可能，濃度管理系統(tǒng)構(gòu)筑也簡單
模擬DC4～20mA及數(shù)字RS232C標(biāo)準(zhǔn)裝備
標(biāo)準(zhǔn)配備測量錯誤輸出和警報輸出
標(biāo)準(zhǔn)裝備自己診斷功能·錯誤信息表示
小型·輕量小區(qū)型發(fā)信器在線直接設(shè)置可能
采用PFA的接液構(gòu)件、小輸出設(shè)計對藥液沒有影響
優(yōu)點
高精度連續(xù)計測可能
無需定期調(diào)整、校對，無需維護(hù)
設(shè)置時的各種調(diào)整等不需要也容易設(shè)置
由于實時輸出的工程的反饋也容易
用途
在CMP工序中的CMP襯墊或氧化劑濃度管理等
稀釋工程的各種藥液濃度管理等（H2O2?TMAH?HNO3?H2SO4?HCl等）
在清洗過程中的清洗液濃度管理等（HF?NH4OH?KOH?IPA等）
蝕刻工序中的蝕刻液濃度管理等（HF?H2SO4等）
富士工業(yè)超聲波濃度計
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