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            賽默飛電子顯微鏡

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            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來

            閱讀:32      發(fā)布時間:2025-4-14
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            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來



            電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)是一種基于掃描電子顯微鏡的強(qiáng)大晶體學(xué)分析工具,可用于晶粒取向鑒定、相鑒定、晶界識別、織構(gòu)分析、應(yīng)力和應(yīng)變分析,晶粒大小和形態(tài)分析,動態(tài)過程研究,三維晶體分析等。

            現(xiàn)代EBSD技術(shù)在20世紀(jì)90年代初取得了商業(yè)化突破并成功進(jìn)入市場,經(jīng)過三十多年的發(fā)展,EBSD的廣泛應(yīng)用還面臨一些挑戰(zhàn),包括工作流程復(fù)雜,分析敏感材料困難,需要有經(jīng)驗的技術(shù)人員參與等,為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn)并使EBSD技術(shù)更加普及,賽默飛世爾科技重磅推出Thermo Scientific™ TruePix™ EBSD探測器,這是一款集高速與高靈敏度為一體的直接電子探測器。TruePix探測器與Apreo ChemiSEM掃描電子顯微鏡和TrueSight能譜儀工作流程無縫配合,一體化地實現(xiàn)形貌觀察、元素分析以及晶體學(xué)分析。



            產(chǎn)品介紹



            TruePix EBSD是一款搭配在Apreo ChemiSEM掃描電鏡上的混合像素直接電子探測器,直接電子探測器像素尺寸為256 x 256,TruePix探測器的發(fā)布實現(xiàn)了在同一個計算機(jī)平臺上進(jìn)行SEM、EDS和EBSD測試,無需外部電子束控制或電腦間的通訊連接,即可實現(xiàn)快速安全操作,最高可實現(xiàn)采集速度2000pps。

            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來
            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來

            TruePix探測器采用了混合像素直接電子探測器, 由于直接電子探測器能夠直接記錄電子信號,而不需要中間的磷光屏或光學(xué)傳輸,從而減少了信號損失,因此具有更高的探測效率。

            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來


            TruePix直接電子探測器


            TruePix混合像素探測器由256x256像素點組成。每個像素點都有獨立的電路,且能進(jìn)行單電子計數(shù),直接電子探測器相比傳統(tǒng)的背散射電子衍射儀有以下主要優(yōu)勢:



            01

            更高的探測效率和信噪比。直接電子探測器能夠直接記錄電子信號,而不需要中間的磷光屏或光學(xué)傳輸,避免了電子到光子轉(zhuǎn)換過程中的噪聲和信號損失,具有更高的探測效率和信噪比。



            02

            低電子劑量分析。由于直接電子探測器對信號的采集更靈敏,適用于低電子劑量下的樣品分析,特別是電子束敏感樣品的分析,同時EBSD空間分辨率也得到提升。



            03

            電子計數(shù)模式。用戶可在采集軟件中設(shè)置能夠被接收的電子能量閾值,也可讀取每個像素中的中位電子數(shù)。


            集成一體化


            此外,賽默飛推出的TruePix探測器的發(fā)布使得SEM與EBSD探測器、后期圖像處理軟件能整合在同一平臺,帶來更便捷的操作和更好的用戶體驗。



            01

            TruePix 探測器的硬件、軟件與掃描電鏡集成,省去了不同電腦之間的通訊時間,縮短數(shù)據(jù)獲取時間。



            02

            由于TruePix EBSD與SEM整合,在不同的樣品工作距離和探頭距離下,它都能準(zhǔn)確識別掃描電鏡的工作條件,自動進(jìn)行花樣中心校準(zhǔn),從而省去了多余的校準(zhǔn)步驟,TruePix可以在電子槍開啟后最短時間進(jìn)入工作狀態(tài)。

            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來
            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來

            TruePix EBSD在不同的WD和DD下都有很高的標(biāo)定率


            賽默飛提供EBSD樣品制備、EBSD采集、

            數(shù)據(jù)處理一系列完整的工作流程


            EBSD樣品制備的質(zhì)量直接影響數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確度和標(biāo)定率。EBSD花樣采集過程中,衍射信號來自樣品表面以下幾十納米的深度范圍,用于EBSD測試的樣品需表面平整、清潔且沒有殘余應(yīng)力,否則會影響衍射花樣的采集以及EBSD的后續(xù)分析。常見的用于EBSD樣品制備的方法有機(jī)械拋光、電解拋光、FIB樣品制備及氬離子拋光。其中氬離子拋光是一種樣品適用性高的方法,賽默飛世爾科技推出的CleanMill氬離子拋光儀能與Apreo ChemiSEM以及TruePix EBSD集成在一個工作流程中,即使對于空氣敏感樣品和電子束敏感樣品也能輕易解決其痛點。

            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來
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            應(yīng)用案例



            TruePix EBSD適用于各類金屬、合金、陶瓷、礦物、鋰電、地質(zhì)、半導(dǎo)體、薄膜、復(fù)合材料等樣品。

            TruePix EBSD開啟晶體學(xué)表征的集成化未來
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            優(yōu)勢總結(jié)



            TruePix EBSD直接電子探測器是一款全新的集成于SEM的一體化EBSD,它能實現(xiàn)快速、準(zhǔn)確的EBSD數(shù)據(jù)分析,實現(xiàn)更高信噪比的數(shù)據(jù)采集。


            適合電子束敏感材料分析,有單電子計數(shù)功能,實現(xiàn)準(zhǔn)確電子劑量控制。


            低電壓性能,允許使用更小的相互作用體積進(jìn)行分析,因此具有更高的空間分辨率。


            靈敏度高,即使是低電子劑量下也能采集到高信噪比的信號,在鎳金屬上的標(biāo)定速率等效于>3,000 點/秒/納安。


            高通量,可實現(xiàn)每秒2000點的標(biāo)定速度。


            更多內(nèi)容,歡迎您觀看TruePix EBSD直接電子探測器研討會。

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