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            Heidolph 磁力攪拌器

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            • Heidolph 磁力攪拌器
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            具體成交價以合同協議為準
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            • 廠商性質 經銷商
            • 所在地 北京市
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            更新時間:2022-10-16 07:30:18瀏覽次數:3197

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            產品簡介

            Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點

            ? 可根據需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
            ? 操作方面,數字顯示,帶背景燈
            ? 800W的加熱能力,快速加熱
            ? 轉速Z大可達到14,000rpm
            ? 強大磁力,輕松驅動攪拌子
            ? Z多可攪拌20L水
            ? 免維護的發(fā)動機,啟動順暢
            ? 溫度調節(jié)精度可至±1℃
            ? 高效率驅動,低效率消耗
            ? 包裹防腐蝕材料的硅合金機身,持久耐用

            詳細介紹

            Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點
             
            • 可根據需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
            • 操作方面,數字顯示,帶背景燈
            • 800W的加熱能力,快速加熱     
            • 轉速zui大可達到14,000rpm
            • 強大磁力,輕松驅動攪拌子
            • zui多可攪拌20L水
            • 免維護的發(fā)動機,啟動順暢
            • 溫度調節(jié)精度可至±1℃
            • 高效率驅動,低效率消耗
            • 包裹防腐蝕材料的硅合金機身,持久耐用
             

             

             

             

             

             

             加熱攪拌MR Hei-End

            加熱攪拌MR Hei-Tec/Tec

             加熱攪拌MR  Hei-Standard

            攪拌MR Hei-Mix D/L/S

             

             
            加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
            高安全性能
            • 800W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)
            •加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
            •優(yōu)秀的熱傳導效率和分配性能
            •優(yōu)秀的防刮花和抗化學腐蝕性能
            •加熱盤直徑: 145 mm
            •通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
            •預設溫差△T, 當溫度偏離控制溫度達到預設定的溫度差時
            •獨立線路開關自動停止加熱
            •*避免錯誤的溫度設定
             
            •速度范圍: 30 - 1,400 rpm
            •出眾的溫度控制精度: ±1 %
            •數字顯示速度和溫度(包括設定值和實際值)
            •加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C 
            •介質溫度范圍:zui高 250     
            •精確溫度設定:±1K    
            •當停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量
            •照明開關
            •三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
            •電子轉速限制, 保護發(fā)動機
            •加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉

            •優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達 20升( H2O)  

            加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec
            適用于更高實驗要求
            MR Hei-Tec
            •800 W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)
            •數字顯示設定溫度和實際溫度
            •加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
            •介質溫度范圍: zui高達 250°C
            •速度范圍: 100 - 1,400 rpm
            •速度控制精度:±2 %
            •通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  
            •當溫度偏離控制溫度達50°C時,獨立線路開關自動停止加熱
            •照明開關
            •電子溫度控制
            (選配 EKT Hei-Con)
            •精確溫度設定:   ±1K 
            (選配 EKT Hei-Con)
            •介質溫度控制精度: ±1K
            (選配 EKT Hei-Con)
            •三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
            •電子轉速限制, 保護發(fā)動機
            •加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉
            •優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達 20升( H2O)
            MR Hei-Tec
            •加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
            -          優(yōu)秀的熱傳導效率和分配性能
            -          優(yōu)秀的防刮花和抗化學腐蝕性能
            •加熱盤直徑: 145 mm
            MR Hei-Tec [ ]
            •與 MR Hei-Tec 參數*
            •正方形加熱盤
            •加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成
            •加熱盤尺寸 w x d (mm): 132 x 132
             
            加熱型磁力攪拌器MR Standard
            適用于任何實驗室的標準攪拌器
            MR Hei-Standard
            • 800 W 加熱功率 (600 W 于 115/100 V)
            •加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
            •介質溫度范圍: zui高達 250°C
            •速度范圍: 100 - 1,400 rpm
            •速度控制精度:±2 %
            •加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
            -          優(yōu)秀的熱傳導效率和分配性能
            -          優(yōu)秀的防刮花和抗化學腐蝕性能
            •加熱盤直徑: 145 mm
            •通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  
            •當溫度偏離控制溫度達50°C時,獨立線路開關自動停止加熱
            •電子溫度控制
            (選配 EKT Hei-Con)
            •精確溫度設定:   ±1K 
            (選配 EKT Hei-Con)
            •介質溫度控制精度: ±1K
            (選配 EKT Hei-Con)
            •三端雙向可控硅開關元件, 確保產品的使用壽命
            •電子轉速限制, 保護發(fā)動機
            •加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉
            •優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達 20升( H2O)
             
            磁力攪拌器MR Mix D/L/S攪拌單功能
             
            MR Hei-Mix D
            •數字顯示,電子速度控制
            •速度范圍: 100 - 1,400 rpm
            •速度控制精度:±2 %
            •加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅動攪拌子輕而易舉
            •加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 (V2A)
            •加熱盤直徑: 145 mm
            •延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤
            •推薦用于細胞生物學實驗室
             
            MR Hei-Mix L
            •與MR Hei-Mix D參數*, 無數字顯示
             
            MR Hei-Mix S
            •白色, 抗化學腐蝕 PVDF 加熱盤
            •特別推薦用于滴定
            •加熱盤直徑: 105 mm
            •電子速度控制,無數字顯示
            •大范圍速度設定: 0 - 2,200 rpm
            •機身: 抗化學腐蝕材料聚氨酯
            •zui小的空間需要:
            126 ×80×140 mm (w × h × d)

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