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            深圳九州工業(yè)品有限公司
            中級(jí)會(huì)員 | 第3年

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            orc半導(dǎo)體用露光裝置PPS-8200/8300的用途和特長(zhǎng)是什么

            時(shí)間:2023/8/21閱讀:549
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            用途:

            支持多種應(yīng)用程序


            支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。

            特長(zhǎng):

            1. 寬帶曝光(與配方聯(lián)動(dòng)的自動(dòng)切換ghi線gh線,i線)。

            2. 搭載可變NA功能(0.16和0.1的可變)。

            3. 最多8個(gè)字段的條形圖設(shè)計(jì)格式。

            4. 由抗蝕氣體和周邊環(huán)境化學(xué)保護(hù)的光學(xué)系統(tǒng)。

              規(guī)格:


              型式PPS-8200/8300
              ウェーハサイズ6/8/12インチ
              解像力2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚)
              NA(開(kāi)口數(shù))0.16、0.1可変
              縮小比1:1
              Fieldサイズ52mm × 33mm
              露光波長(zhǎng)ghi-Line gh-line i-line(レシピ連動(dòng))
              レチクルサイズ6inch
              重ね合せ精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
              裝置サイズ/重量(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
              主要オプションバックサイドアライメントシステム
              ウェーハ周辺露光システム
              ウェーハ周辺非露光システム
              薄ウェーハ搬送システム
              GEM通信対応
              インライン対応


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