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            艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司

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            無掩膜光刻機(jī)

            參  考  價(jià):面議
            具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

            產(chǎn)品型號(hào):ABN-MLM-001

            品       牌:ABNER/艾博納

            廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

            所  在  地:淮安市

            更新時(shí)間:2024-11-13 17:09:20瀏覽次數(shù):266次

            聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)
            產(chǎn)品名稱:無掩膜光刻機(jī)
            產(chǎn)品型號(hào):ABN-MLM-001
            產(chǎn)品簡介:無掩膜光刻系統(tǒng)利用計(jì)算機(jī)生成的數(shù)字掩膜圖形,并通過聲光調(diào)制器(AOM)輸出,經(jīng)過聲光掃描器和反射鏡將光束引導(dǎo)至光學(xué)投影系統(tǒng)。系統(tǒng)將高精度、強(qiáng)度可調(diào)的激光束投射到晶圓或掩膜模板的表面,實(shí)現(xiàn)對(duì)抗蝕材料的可變劑量曝光。

            產(chǎn)品名稱:無掩膜光刻機(jī)

            產(chǎn)品型號(hào):ABN-MLM-001

            產(chǎn)品簡介:無掩膜光刻系統(tǒng)利用計(jì)算機(jī)生成的數(shù)字掩膜圖形,并通過聲光調(diào)制器(AOM)輸出,經(jīng)過聲光掃描器和反射鏡將光束引導(dǎo)至光學(xué)投影系統(tǒng)。系統(tǒng)將高精度、強(qiáng)度可調(diào)的激光束投射到晶圓或掩膜模板的表面,實(shí)現(xiàn)對(duì)抗蝕材料的可變劑量曝光。激光束根據(jù)預(yù)設(shè)的設(shè)計(jì)圖形直接對(duì)基片表面進(jìn)行曝光,顯影后在抗蝕層上形成所需的圖案。這種技術(shù)無需傳統(tǒng)的物理掩膜,因此大大縮短了制作周期,同時(shí)降低了設(shè)計(jì)和生產(chǎn)成本。尤其是在快速迭代設(shè)計(jì)的場景中,顯現(xiàn)出極大的靈活性和效率。通過計(jì)算機(jī)控制,可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)別的精確加工,適用于微納米結(jié)構(gòu)制造。

            無掩膜光刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:

            · 大規(guī)模集成電路(IC)掩膜版制作實(shí)現(xiàn)高精度、快速迭代的掩模版設(shè)計(jì)與制作。

            · 微納加工適用于MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))元件的精密圖形寫入。

            · LED產(chǎn)業(yè)在高精度LED芯片設(shè)計(jì)與制造中具有重要作用。

            · 生物芯片用于生物芯片中微結(jié)構(gòu)的快速成像與制備。

            相較于傳統(tǒng)掩膜光刻技術(shù),無掩膜光刻系統(tǒng)具有更高的靈活性、更短的開發(fā)周期以及更低的運(yùn)營成本,使其成為現(xiàn)代微納制造中的重要工具之一。

            設(shè)備技術(shù)指標(biāo):
            •工作波長:405 nm
            • 激光功率:最大300mW
            • 分辨率:0.3 μm
            • 對(duì)準(zhǔn)精度:正面0.1μm(1mm圖形范圍內(nèi)),背面1um(2.5寸)
            • 掃描速度:3-150 mm2/min
            • 樣品尺寸:最大 8英寸
            • 具有灰度曝光功能



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