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            過程氣工藝氣全組分分析方案KNV-CMC0096

            閱讀:471      發(fā)布時(shí)間:2020-7-10
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            • 四通道快速分析方案,10分鐘內(nèi)實(shí)現(xiàn)包含氧化合物在內(nèi)的工藝氣全組分分析;

            • 在烴分析通道氧化物、水等極性較大組分在預(yù)柱中反吹,不進(jìn)入分析柱;

            • 氧化物分析通道實(shí)現(xiàn)醇,醚,醛,酸,酯組分的分析;

            • TCD 1分析通道可分析濃度大于500 ppm(V)的H 2 S;

            • TCD 2通道為低含量H 2 組分分析通道;

            • 氧化物通道可替換成硫化物分析通道(FPD檢測(cè)器),實(shí)現(xiàn)對(duì)低含量含硫組分的分析檢測(cè),對(duì)應(yīng)的方案號(hào)為KNV-CMC0099。

             

             

             

             

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