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            LGA-3100-聚光LGA-3100分布式激光過程氣體分析儀
            • LGA-3100-聚光LGA-3100分布式激光過程氣體分析儀

            貨物所在地:浙江杭州市

            更新時間:2025-04-10 21:00:07

            瀏覽次數(shù):361

            在線詢價收藏產(chǎn)品

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            LGA-3100分布式激光過程氣體分析系統(tǒng)是基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術,并采用分布式測量方式,可同時對多個測量點的氣體濃度進行實時分析,具有高性價比的激光氣體分析產(chǎn)品。

            LGA-3100分布式激光過程氣體分析儀產(chǎn)品概述

            LGA-3100分布式激光過程氣體分析系統(tǒng)是基于半導體激光吸收光譜(DLAS)技術,并采用分布式測量方式,可同時對多個測量點的氣體濃度進行實時分析,具有高性價比的激光氣體分析產(chǎn)品。

            LGA-3100分布式激光過程氣體分析儀產(chǎn)品特點

            l可靠性高的分布式測量

            LGA-3100 分布式激光過程分析系統(tǒng)采用獨立的測量單元和集中控制的*單元的系統(tǒng)結構,可實現(xiàn)多達八個不同測量應用(不同工藝點和氣體組份)的同時檢測。各測量通道獨立的激光器和光電測量模塊確保了系統(tǒng)的高可靠性,即使*單元或某個測量通道出現(xiàn)問題,也不會影響其他通道測量。

            l環(huán)境適應性強,測量漂移小

            LGA-3100分布式激光過程分析系統(tǒng)由于克服粉塵等環(huán)境因素對測量影響,大大提高了系統(tǒng)的測量穩(wěn)定性,標定周期長達半年。同時,各測量通道采用獨立的標定模式,確保標定的準確性,符合zui嚴格的計量設備標定要求。

            l集中顯示與控制,網(wǎng)絡智能管理

            LGA-3100 *單元是基于高性能32位處理器的智能化控制單元,采用彩色觸摸屏人機界面,功能強大、操作方便;同時系統(tǒng)還支持RS485\RS232\GPRS等多種通訊方式,可方便實現(xiàn)遠程調(diào)試維護、軟件升級等功能,大大提高了系統(tǒng)的適用性和服務響應能力。

            LGA-3100分布式激光過程氣體分析儀技術參數(shù)

            技術指標

            線性誤差:≤±1% F.S.

            量程漂移:≤±1% F.S./3個月

            重復性誤差:≤±1% F.S.

            防爆等級:發(fā)射&接收單元:ExpxmdIICT5

            防護等級:發(fā)射&接收單元—IP65

                 *控制單元—IP55

             響應時間

            預熱時間:≤30 Min

            響應時間:≤5S(T90)

            接口信號

            模擬量輸出:(每個通道)2路4~20mA,隔離、zui大負載750Ω

            繼電器輸出:(每個通道)3路繼電器,規(guī)格24V,1A

            模擬量輸入:(每個通道)2路4~20mA 溫度、壓力補償

            數(shù)字通訊:RS485(可選Bluetooth\RS232 \GPRS)

            電氣特性

            電源:100~240 V AC / 48~63Hz

            功耗:zui大 140W

            EMC:IEC 61000-4-2 IEC 61000-4-4 IEC 61000-4-5

            電氣安全:IEC 1010-1

            LGA-3100分布式激光過程氣體分析儀工作條件

            工作環(huán)境溫度:-30℃~60℃

            存儲溫度:-40℃~80℃

            吹掃氣體:0.3~0.8Mpa凈化儀表空氣或工業(yè)氮氣

            安裝方式:發(fā)射&接收單元—DN50法蘭原位安裝或旁路安裝

            *單元—壁掛或19英寸盤裝

            測量氣體參數(shù)

             

            氣體

            測量下限

            測量范圍

            O2

            100 ppm

            (0-1)%Vol., (0-100)%Vol.

            CO2

            10 ppm

            (0-1000)ppm,(0-100)%Vol.

            H2S

            20 ppm

            (0-2000) ppm, (0-100)%Vol.

            HCL

            0.1 ppm

            (0-50) ppm,(0-100)%Vol.

            NH3

            0.1 ppm

            (0-10) ppm, (0-100)%Vol.

            C2H2

            0.1 ppm

            (0-10) ppm, (0-100)%Vol.

            CO

            10 ppm

            (0-1000)ppm, (0-100)%Vol.

            H2O

            0.3 ppm

            (0-50)ppm, (0-100)%Vol.

            HF

            0.02 ppm

            (0-5)ppm, (0-10000) ppm

            HCN

            0.3 ppm

            (0-30)ppm, (0-1)%Vol.

            CH4

            0.4 ppm

            (0-40)ppm, (0-100)%Vol.

            C2H4

            0.6 ppm

            (0-60)ppm, (0-100)%Vol.

            CH3I

            0.6 ppm

            (0-60)ppm, (0-100)%Vol.

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