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            根據(jù)USP第<467>章的方法采用壓力平衡頂空系統(tǒng)測(cè)定I、II、III 類殘留溶劑

            閱讀:1150      發(fā)布時(shí)間:2020-02-11
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             藥物中的殘留溶劑系指在藥物活性成分(APIs)、輔料以及藥品加工過(guò)程中使用的,但在凈化工藝過(guò)程中未能*去除的那部分溶劑。藥品中的雜質(zhì)主要分為三類,分別為:有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)和殘留溶劑。在藥品生產(chǎn)過(guò)程中常常會(huì)使用大量的溶劑,有時(shí)溶劑的使用是合成的關(guān)鍵,因?yàn)樗軌驔Q定藥品的特征,如晶形態(tài)、純度和溶解性能等。但是殘留溶劑沒有任何的療效,應(yīng)盡可能的去除,而且殘留量要符合ICH人用藥品注冊(cè)技術(shù)要求協(xié)調(diào)會(huì))指南的要求。ICH是控制藥品質(zhì)量、活性物質(zhì)、輔料以及藥品純度的標(biāo)準(zhǔn)之一。
             
             

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            珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司

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