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使用 NexION 5000 ICP-MS 對稀硝酸中的超痕量非金屬元素進行測定

閱讀：380 發(fā)布時間：2021-05-17

硝酸廣泛應用于半導體和電子工業(yè)中。按照不同的應用和預期用途，需要的純度等級也是不同的。

超純或半導體級氨（HNO3）用于硅和各種重金屬的濕法刻蝕。也常與其他材料混合形成拋光劑，用于板互連的金屬部件上。由于這些原因，為滿足生產(chǎn)要求，半導體行業(yè)對硝酸溶液中包括非金屬元素在內(nèi)的各種雜質(zhì)的檢測要求越來越高。由于等離子體氣體和樣品基質(zhì)存在復雜的光譜干擾，使用傳統(tǒng)的 ICP-MS 對稀硝酸中的非金屬元素如砷（As）、溴（Br）、氯（Cl）、碘（I），磷（P）、硫（S）、硒（Se）和硅（Si）進行低 ppt 定量具有很大挑戰(zhàn)性。

這個問題使用如下配置的 ICPMS 很容易解決：此系統(tǒng)不僅在離子進入碰撞反應池前對其進行質(zhì)量過濾，而且還可控制其在池中的反應，這是只有四級桿反應池才有的功能。這確保沒有副反應產(chǎn)生副產(chǎn)物，實現(xiàn)可預測和可重復的干擾被消除，且無論樣品基質(zhì)如何。使用這種儀器分析非金屬元素往往可得出優(yōu)秀的背景等效濃度和檢出限。

這篇應用簡述中，用 NexION® 5000 多重四級桿 ICP-MS測出稀硝酸中非金屬雜質(zhì)的檢出限（DL）和背景等效濃度（BEC）。分析使用單個分析方法進行，冷或熱等離子體條件依據(jù)分析物決定。

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