為藥廠&CRO公司量身定制-安譜實(shí)驗(yàn)推出高品質(zhì)氣相頂空溶劑
頂空進(jìn)樣氣相色譜法(GC-HS)是目前檢測藥物中有機(jī)殘留溶劑使用較多的方法,聚光科技(杭州)股份有限公司下屬子公司上海安譜實(shí)驗(yàn)科技股份有限公司(以下簡稱“聚光科技”)嚴(yán)格按照ICH、USP、EP法規(guī)對于藥物殘留溶劑的要求,推出氣相頂空溶劑。
CNW氣相色譜頂空溶劑包含USP<467>和EP2.4.24方法中列出的用于水溶性樣品和非水溶性樣品中有機(jī)殘留溶劑分析常用的頂空溶劑,如DMSO、DMF、DMA、NMP。
下面是HPLC 級DMSO、DMF、DMA 與HS-GC(氣相頂空)級DMSO、DMF、DMA 進(jìn)行HS-GC-MS 分析譜圖對比:
下圖為不同品牌質(zhì)控指標(biāo)對比:
對比結(jié)果:安譜實(shí)驗(yàn)頂空溶劑(Class1,2,3)殘留溶劑含量均小于其他競爭品牌
CNW 氣相色譜頂空溶劑具有以下優(yōu)勢:
GC-HS 級別高純?nèi)軇┣鍐危?br />
頂空溶劑實(shí)驗(yàn)小貼士
檢測器的選擇
一般選用FID檢測器,對含鹵素的有機(jī)溶劑如氯仿等,采用ECD檢測器可得到更高的靈敏度。
溫度的選擇
頂空溫度應(yīng)根據(jù)溶解供試品溶劑的特性及供試品中殘留溶劑的沸點(diǎn)選擇。以水為溶劑及測定低沸點(diǎn)殘留溶劑時(shí),頂空溫度不宜超過85℃;測定沸點(diǎn)較高的殘留溶劑時(shí),通常選擇較高的頂空溫度;以DMSO 為溶劑時(shí),頂空溫度不宜超過115℃。
時(shí)間的確定
頂空時(shí)間是要確保供試品溶液的氣- 液兩相達(dá)到平衡,一般通過測定頂空時(shí)間與頂空氣體濃度的濃度—時(shí)間曲線來確定。頂空時(shí)間不宜過長,一般為30~45分鐘。
CNW氣相色譜頂空溶劑包含USP<467>和EP2.4.24方法中列出的用于水溶性樣品和非水溶性樣品中有機(jī)殘留溶劑分析常用的頂空溶劑,如DMSO、DMF、DMA、NMP。
下面是HPLC 級DMSO、DMF、DMA 與HS-GC(氣相頂空)級DMSO、DMF、DMA 進(jìn)行HS-GC-MS 分析譜圖對比:


CNW 氣相色譜頂空溶劑具有以下優(yōu)勢:


檢測器的選擇
一般選用FID檢測器,對含鹵素的有機(jī)溶劑如氯仿等,采用ECD檢測器可得到更高的靈敏度。
溫度的選擇
頂空溫度應(yīng)根據(jù)溶解供試品溶劑的特性及供試品中殘留溶劑的沸點(diǎn)選擇。以水為溶劑及測定低沸點(diǎn)殘留溶劑時(shí),頂空溫度不宜超過85℃;測定沸點(diǎn)較高的殘留溶劑時(shí),通常選擇較高的頂空溫度;以DMSO 為溶劑時(shí),頂空溫度不宜超過115℃。
時(shí)間的確定
頂空時(shí)間是要確保供試品溶液的氣- 液兩相達(dá)到平衡,一般通過測定頂空時(shí)間與頂空氣體濃度的濃度—時(shí)間曲線來確定。頂空時(shí)間不宜過長,一般為30~45分鐘。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。