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進(jìn)口電化學(xué)工作站常見的分析方法有哪些？
進(jìn)口電化學(xué)工作站是一款由單片機(jī)控制的具有16位總線寬度及18位AD轉(zhuǎn)換精度的工作站。該儀器擁有40多種電化學(xué)與電分析化學(xué)實驗方法。使用簡單方便，實驗數(shù)據(jù)實時顯示，便于操作者直觀、方便的觀測實驗狀態(tài)。同時，該儀器適合兩電極、三電極及四電極工作模式?？蓾M足化學(xué)、材料、能源、環(huán)境、醫(yī)學(xué)等眾多領(lǐng)域的科研及教學(xué)工作。該儀器可實現(xiàn)電位（控制）、電流控制，開路電壓測量、各種伏安分析和極譜分析等電化學(xué)研究和分析方法。
進(jìn)口電化學(xué)工作站是專為能源樣品測試而打造的多樣品阻抗測試系統(tǒng)。8個通道進(jìn)行序列測試，尤其適合樣品量大的情況；連續(xù)測試，無需值守，充分提高用戶的時間利用率。
該系統(tǒng)可與電池循環(huán)充放電設(shè)備聯(lián)用，在對電池充放電的同時，進(jìn)行阻抗序列測試，也適合級電容器、燃料電池等樣品的阻抗測試。
利用進(jìn)口電化學(xué)工作站，常見的分析方法有：
?。?）線性極化（線性掃描法）及用來研究添加劑對鍍層質(zhì)量的影響，比如當(dāng)極化加強(qiáng)時，鍍層一般可以得到細(xì)化。
?。?）循環(huán)伏安法，可以用來研究合金或多組分電鍍時，如何控制不同成分的沉積量。通過不同的添加劑或者調(diào)整添加劑的用量，在循環(huán)伏安曲線上可以看到氧化還原電位的移動（還原電位即為沉積電位）。
?。?）進(jìn)口電化學(xué)工作站交流阻抗/微分電容曲線法，通過分析電容變化曲線，了解添加劑對吸附大小的影響，吸附越大時，鍍層的平整性就越好。微分電容曲線在電化學(xué)工作站中由電位掃描交流阻抗方法測量得到。
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