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氧氮?dú)浞治鰞x由于分析器很重，應(yīng)該放置在合適的平臺上。天平要放置在無振動的平臺上。天平可以放置在任何位置，為方便起見，一般放置在分析器的右邊比較合適。打印機(jī)和計算機(jī)的放置沒有特殊要求?？梢苑胖迷谝话闩_子上。
氧氮?dú)浞治鰞x的序控溫分析功能：
對于氫的標(biāo)準(zhǔn)檢測，使用分離柱以便氮和氫單獨(dú)分別進(jìn)入TCD檢測器。當(dāng)?shù)蜌浣惶孢M(jìn)入檢測器時，程序控溫分析對于標(biāo)準(zhǔn)氣路機(jī)構(gòu)是無效的，因為辨別氮和氫的峰值是非常困難的。
進(jìn)行程序控溫分析時要使用分離柱旁路機(jī)構(gòu)，此時氮?dú)夂蜌錃庖黄疬M(jìn)入TCD檢測器。接下來，氫氣被氧化并被共存氣體補(bǔ)償機(jī)構(gòu)除去，因而只有氮?dú)膺M(jìn)入TCD檢測器。最后，經(jīng)過差分操作處理得到兩個檢測結(jié)果，進(jìn)而決定氫的成分。
設(shè)備用途及基本要求：
用于定量檢測金屬材料中氧、氮、氫元素的含量，所標(biāo)定的技術(shù)參數(shù)均為實際值的下限。要求出廠前預(yù)裝調(diào)試，保證各部件質(zhì)量及匹配質(zhì)量并以整機(jī)形式出廠，經(jīng)久耐用，可靠性高，使用壽命長。
氧氮?dú)浞治鰞x的維護(hù)保養(yǎng)：
1、更換試劑
高氯酸鎂：顆粒在試管中不能自由移動時應(yīng)更換；
2、清掃脈沖熔融爐
一般分析后，可用干凈的綢布擦拭上下爐頭，并用洗耳球吹掃爐膛，防止粉塵污染爐頭及氣路。
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