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低雜散光光譜儀新的光學(xué)平臺(tái)使顏色測(cè)量更快
光譜儀用于測(cè)量光的光譜功率分布，廣泛應(yīng)用于顏色測(cè)量、元素鑒定、化學(xué)分析等領(lǐng)域。雜散光水平是光譜儀中的一個(gè)重要參數(shù)。所謂雜散光是指錯(cuò)誤波長(zhǎng)（非對(duì)應(yīng)的信號(hào)光波長(zhǎng)）的光輻射照射到探測(cè)器像素上所產(chǎn)生的信號(hào)。該參數(shù)對(duì)于光譜儀的所有應(yīng)用都非常重要。低雜散光光譜儀是一種高靈敏度的面陣探測(cè)器，是一種理想的高性能光譜測(cè)量產(chǎn)品。得益于更寬的線性工作范圍，特別適用于透射和吸光度檢測(cè)。超低雜散光和高靈敏度的結(jié)合也使顏色測(cè)量更快。
雜散光大大減少，提高了機(jī)械和溫度穩(wěn)定性。低雜散光光譜儀新型光學(xué)平臺(tái)內(nèi)置雙模消除器和多級(jí)復(fù)合拋物面鏡，雜散光降低至0.04%。除了顯著改善雜散光外，新的光學(xué)平臺(tái)還將光譜儀的機(jī)械強(qiáng)度提高了10倍以上，使其不再對(duì)機(jī)械畸變和溫度變化敏感。這個(gè)新的光學(xué)平臺(tái)有兩個(gè)光圈和多個(gè)光阱，可以將雜散光抑制到0.04%，比普通的光譜儀好2.5倍。新的光學(xué)平臺(tái)不僅改善了雜散光，還大大提高了機(jī)械剛度，將微彎和溫度漂移的影響降低了10倍。
1、特別適用于需要測(cè)量高吸光度的應(yīng)用，例如高化學(xué)濃度、高光密度光學(xué)元件和長(zhǎng)光程測(cè)量。這種新的光學(xué)平臺(tái)和光譜儀適用于OEM應(yīng)用和單一儀器應(yīng)用。
2、具有低雜散光（0.015%at400nm）效果和良好的測(cè)色效果，提高了低照度下的測(cè)量靈敏度和處理效果。
3、低雜散光光譜儀具有優(yōu)異的熱穩(wěn)定性，其性能可與科研光譜儀相媲美，可應(yīng)對(duì)各種應(yīng)用挑戰(zhàn)。
4、在環(huán)面的光學(xué)結(jié)構(gòu)中，我們采用了可變間距凹面光柵，使分束系統(tǒng)更有效光柵的中心刻線密度為550（±2）條刻線/mm，標(biāo)稱閃耀波長(zhǎng)為400納米。
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