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            產(chǎn)品推薦:氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學(xué)|元素分析|水分測(cè)定儀|樣品前處理|試驗(yàn)機(jī)|培養(yǎng)箱


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            Hellma光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)品簡(jiǎn)介

            來(lái)源:北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司   2023年02月13日 17:30  

            Hellma光學(xué)應(yīng)用產(chǎn)品簡(jiǎn)介

            產(chǎn)品分類:

            晶體材料

            光學(xué)玻璃

            光學(xué)元件

            實(shí)驗(yàn)室設(shè)備

            過(guò)程分析

            光譜解決方案

            1.Hellma高精度光學(xué)元件 - 根據(jù)您的要求精確定制


            先進(jìn)光學(xué)元件的產(chǎn)品用于激光技術(shù)應(yīng)用以及光子學(xué)和光學(xué)工業(yè)的所有其他領(lǐng)域。所有光學(xué)器件都有一個(gè)共同的基礎(chǔ):精確控制光線的能力。


            特別是激光應(yīng)用,由于其多樣性,在光子學(xué)中起著決定性的作用。無(wú)論是均勻化還是擴(kuò)展激光束,它們都會(huì)從一個(gè)點(diǎn)轉(zhuǎn)換為一條線,或者釋放最高強(qiáng)度的脈沖,在我們的光學(xué)器件的幫助下,這是高精度完成的。

            2.Hellma實(shí)驗(yàn)室設(shè)備


            Hellma Analytics為光譜學(xué)和細(xì)胞術(shù)提供廣泛的產(chǎn)品組合。Hellma比色皿、流通池和探頭在實(shí)驗(yàn)室的廣泛應(yīng)用中具有吸收測(cè)量、熒光測(cè)量和拉曼測(cè)量的穩(wěn)定性、高精度和安全性。


            實(shí)驗(yàn)室設(shè)備分類:

            細(xì)胞

            紫外可見分光光度計(jì)參考物質(zhì)

            微量分析托盤單元 2.0

            微型測(cè)試板

            實(shí)驗(yàn)室探頭

            實(shí)驗(yàn)室測(cè)量池

            代工/定制產(chǎn)品

            3.

            晶體材料:

            Hellma Materials和CVD陶瓷是高品質(zhì)晶體和陶瓷光學(xué)材料的制造商,為各行各業(yè)提供服務(wù)。這些包括微光刻、光學(xué)、激光技術(shù)和輻射檢測(cè)。憑借長(zhǎng)期的技術(shù)專長(zhǎng)和我們對(duì)客戶需求的強(qiáng)烈關(guān)注,我們產(chǎn)品的認(rèn)可和一致的質(zhì)量使我們能夠成為不斷增加的滿意客戶的可靠供應(yīng)商。

            1. 氟化鈣:用于紫外/可見光/紅外應(yīng)用的光學(xué)材料

            Hellma MaterialsCaF2多年來(lái)一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF2 是投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF2 的光學(xué)特性可實(shí)現(xiàn)各種高級(jí)應(yīng)用。

            應(yīng)用

            由于的光學(xué)質(zhì)量和在紫外、可見光和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率,Hellma Materials CaF2 可用于多種應(yīng)用:

            紅外光學(xué)元件

            用于天文儀器的光學(xué)元件

            天基光學(xué)器件

            顯微鏡光學(xué)元件

            光譜光學(xué)

            紫外光學(xué)

            激光窗口

            準(zhǔn)分子激光光學(xué)

            微光刻光學(xué)

             

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