等離子清洗機(jī)的工作清洗原理及在封裝工藝中的應(yīng)用
等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素、光子等。就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、涂覆、光刻膠灰化等目的。
等離子清洗機(jī)的工作清洗原理:
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的。
等離子清洗機(jī)在封裝工藝中的應(yīng)用:
在微電子封裝的生產(chǎn)過程中,由于指印、助焊劑、各種交叉污染、自然氧化等,器件和材料表面會(huì)形成各種沾污,包括有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、焊料、金屬鹽等。這些沾污會(huì)明顯地影響封裝生產(chǎn)過程中的相關(guān)工藝質(zhì)量。
使用等離子體清洗可以很容易清除掉生產(chǎn)過程中所形成的這些分子水平的污染,保證工件表面原子與即將附著材料的原子之間緊密接觸,從而有效地提高引線鍵合強(qiáng)度,改善芯片粘接質(zhì)量,減少封裝漏氣率,提高元器件的性能、成品率和可靠性。
所在鋁絲鍵合前采用等離子體清洗后,鍵合成品率提高10%,鍵合強(qiáng)度一致性也有提高。在微電子封裝中,等離子體清洗工藝的選擇取決于后續(xù)工藝對(duì)材料表面的要求、材料表面的原有特征、化學(xué)組成以及污染物的性質(zhì)等。
通常應(yīng)用于等離子體清洗的氣體有氬氣、氧氣、氫氣、四氟化碳及其混合氣體等。
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