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            半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

            來源:秋山科技(東莞)有限公司   2023年07月21日 10:46  

            半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

            特點(diǎn)

            光刻是半導(dǎo)體制造過程中不可少的工藝之一。

            晶圓被光刻膠,然后進(jìn)行蝕刻和摻雜過程。

            NLT3-591nm系列以光刻膠不反應(yīng)的波長(zhǎng)發(fā)光,使其適用于光刻前后工藝中的設(shè)備照明,這是一種半導(dǎo)體制造工藝。

            應(yīng)用示例

            半導(dǎo)體設(shè)備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等

            規(guī)范

            發(fā)光二極管波長(zhǎng)591納米
            預(yù)期壽命工作溫度 40°C 40,000 小時(shí)
            * 壽命是照度為初始照度的 70% 時(shí)
            工作溫度-10°C~40°C(但不凍結(jié))
            防護(hù)等級(jí)IP65 防護(hù)等級(jí)
            電源線3 米 (AWG26x2C)
            選擇安裝磁鐵 (ND-P03)











            標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)列表

            繪圖總光通量照度(1米)權(quán)力功耗
            NLT3-10-直流-S(591納米)。.PDF 300 流明80 lx直流24V3.8瓦
            NLT3-20-直流-S(591納米)。.PDF 610 流明160 lx8W
            NLT3-30-直流-S(591納米)。.PDF 930 流明230 lx12W
            NLT3-40-直流-S(591納米)。.PDF 1,240 流明310 lx16W









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