選擇合適類型的X射線源是實現(xiàn)優(yōu)質(zhì)成像和拓寬應(yīng)用范圍的關(guān)鍵。 在上一期的推文中，我們介紹了射線源「開管和閉管」的結(jié)構(gòu)區(qū)別，本期我們繼續(xù)為大家介紹「反射靶和透射靶」兩種射線源結(jié)構(gòu)。

反射式靶

反射式靶的特點在于其靶面與入射電子束形成一定傾斜角度。這種設(shè)計具有較大的散熱體積，因此可以承受較高電壓的加速電子。反射式靶的優(yōu)勢在于能夠獲得更高的電子能量，從而產(chǎn)生更強的X射線輻射。這對于需要高能量成像的應(yīng)用場景非常重要，例如：

· 汽車工業(yè)：檢測電子組件、電子控制單元、微型機械裝置、插頭和壓接件、電池盒等。

· 航空航天領(lǐng)域：檢測機械組件（如閥或襟翼制動器）、環(huán)向電子束焊（EB）焊縫、轉(zhuǎn)子葉片、渦輪葉片、飛機渦輪、電子組裝、小型鈦和鋁鑄件、復(fù)合材料等。

圖源網(wǎng)絡(luò)

透射式靶

透射式靶是一層薄膜，其靶面與入射電子束垂直。這種設(shè)計可以獲得更小的焦點尺寸和更大的輻射角度。透射式靶適用于需要高分辨率成像的場景，例如：

· 材料科學(xué)中的微焦點X射線成像：透射式靶可用于研究材料的微觀結(jié)構(gòu)和缺陷。

圖源網(wǎng)絡(luò)

無論是「開管和閉管」，還是「反射靶和透射靶」，不同的結(jié)構(gòu)組合，其成像質(zhì)量、應(yīng)用場景等各有不同，我們建議用戶在選擇設(shè)備時，一定要結(jié)合自身實際，充分考慮好檢測需求，再選擇最合適的射線源。只有根據(jù)實際情況做出明智的選擇，才能充分發(fā)揮X射線成像技術(shù)的潛力，為各領(lǐng)域的檢測和研究提供精準(zhǔn)、高效的解決方案。