狠狠色丁香久久综合婷婷亚洲成人福利在线-欧美日韩在线观看免费-国产99久久久久久免费看-国产欧美在线一区二区三区-欧美精品一区二区三区免费观看-国内精品99亚洲免费高清

      

        

            
	
            
	
            
		
	
            
		
            產品推薦：氣相|液相|光譜|質譜|電化學|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗機|培養(yǎng)箱
            	
            
		
            
			
			
			
            
				2025版儀器采購寶典電子書				
            
			
            
		
            
	
            
		
            
		
            
			
            化工儀器網>技術中心>技術參數>正文
            
		
            
	
            
	
            
		
            
			
			
            
				
            
					
            
						
            
						
            歡迎聯系我
            
						有什么可以幫您？
						在線咨詢
					
            
				
            
			
				
				
            
					
            
						
            
							
            CVI反射鏡 （高質量高損傷閾值反射鏡）產品介紹
            
							
            
								來源：北京波威科技有限公司  
								2025年01月17日 14:37  
                                
    
    
    
        
							
            
						
            
						
            
							
            CVI反射鏡 （高質量高損傷閾值反射鏡）
            產品介紹：CVI反射鏡，是高質量的光學反射鏡選擇，廣泛應用于各類高功率及精密激光應用中。鏡片面型精度、鍍膜損傷閾值高，堅固耐用并為客戶提供優(yōu)質像質。光學誤差RMS低于λ/50，表面粗糙度可達3-5?。是目前國內高校、研究所及高功率/高性能光學實驗室的選擇！主要應用:l 激光諧振腔鏡l 光路偏轉l 各類激光加工設備產品參數：類別系列代碼波長范圍nm反射率直徑mm面型精度表面質量損傷閾值窄帶部分反射鏡
            產品介紹：
            CVI反射鏡，是高質量的光學反射鏡選擇，廣泛應用于各類高功率及精密激光應用中。鏡片面型精度、鍍膜損傷閾值高，堅固耐用并為客戶提供優(yōu)質像質。光學誤差RMS低于λ/50，表面粗糙度可達3-5?。
            是目前國內高校、研究所及高功率/高性能光學實驗室的選擇！
            主要應用:
            l 激光諧振腔鏡
            l 光路偏轉
            l 各類激光加工設備
            產品參數：
            類別
            系列代碼
            波長范圍nm
            反射率
            直徑mm
            面型精度
            表面質量
            損傷閾值
            窄帶部分反射鏡
            PR1
            190-2100
            30-90%
            12.7-50.8
            λ/10
            10-5
            20 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 1064nm,
            10 MW/cm2 at 1064nm
            窄帶可調全反鏡
            TLM1
            190-2100
            R ≥ 99.0% at 0°
            R ≥ 98.5% at 45°, P-Pol
            R ≥ 99.0% at 45°, UNP
            R ≥ 99.5% at 45°, S-Pol
            12.7-101.6
            λ/10
            10-5
            20 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 1064nm,
            10 MW/cm2 at 1064nm
            光纖全反鏡
            FLM
            343, 515,
            1030, 1064,
               1070, 1550nm
            R ≥ 99.0% at 0°
            R ≥ 99.0% at 45°, UNP
            12.7-50.8
            λ/10
            10-5
            20 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 1064nm,
            10 MW/cm2 at 1064nm
            準分子全反鏡
            ARF
            193
            R ≥ 97% at 0°
            R ≥ 96.0% at 45° UNP
            25.4-76.2
            λ/10
            10-5
            1 J/cm2, 20ns pulse at   193nm
            KRF
            248
            R ≥ 99.5% at 0°
               R ≥ 99.0% at 45°, UNP
            25.4-76.2
            λ/10
            10-5
            3 J/cm2, 8ns pulse at   248nm
            YAG全反鏡
            Y5
            213
            R ≥ 97.0% at 0°
            R ≥ 97.0% at 45°, UNP
            12.7-50.8
            λ/10
            10-5
            3 J/cm2, 8ns pulse at 248nm
            Y4
            262-266
            R ≥ 99.9% at 0°
            R ≥ 99.6% at 45°, P-Pol
            R ≥ 99.8% at 45°, UNP
            R ≥ 99.9% at 45°, S-Pol
            12.7-101.6
            λ/10
            10-5
            10 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 266nm
            Y3
            349-355
            R ≥ 99.9% at 0°
            R ≥ 99.6% at 45°, P-Pol
            R ≥ 99.8% at 45°, UNP
            R ≥ 99.9% at 45°, S-Pol
            12.7-101.6
            λ/10
            10-5
            15 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 355nm
            Y2
            523-532
            R ≥ 99.9% at 0°
            R ≥ 99.6% at 45°, P-Pol
            R ≥ 99.8% at 45°, UNP
            R ≥ 99.9% at 45°, S-Pol
            12.7-101.6
            λ/10
            10-5
            20 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 532nm
            Y1
            1047-1064
            R ≥ 99.9% at 0°
            R ≥ 99.6% at 45°, P-Pol
            R ≥ 99.8% at 45°, UNP
            R ≥ 99.9% at 45°, S-Pol
            12.7-101.6
            λ/10
            10-5
            25 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 1064nm
            Y1S, Y2S, Y3S, Y4S
            266, 355,
            532, 1064
            R ≥ 99.9% at 0°
            R ≥ 99.9% at 45°, P-Pol
            R ≥ 99.9% at 45°, S-Pol
            25.4
            λ/10
            10-5
            40 J/cm2, 20ns, 20Hz   at 1064nm
            雙波長反射鏡
            HM
            1064/532
            R ≥ 99% at 1064 and   532nm
            12.7-50.8
            λ/10
            10-5
            8 J/cm2, 20ns, 20Hz at   1064nm,
            3 J/cm2, 20ns, 20Hz at 532nm
            YH
            1064/633
            R ≥ 99% at 1064nm
            R ≥ 80% at 633nm
            25.4-50.8
            λ/10
            10-5
            8 J/cm2, 20ns pulse at   1064nm
            寬帶反射鏡
            TLM2
            450nm to 2100nm
            R > 99.5% at 0° incidence
            R >99.0% at 45° incidence
            12.7-25.4
            λ/10
            10-5
            500 mJ/cm2, 20ns, 20Hz   at 1064nm
            MPQ
            245 – 390 (UV)
               420 – 700 (VIS)
            Ravg≥ 98% from 245 – 390nm at 0° - 45°
            Ravg≥ 98% from 420 – 700nm at   0° - 45°
            25.0
            λ/4
            60-40
            0.5 J/cm2, 10ns at   532nm
            鈦寶石超快反射鏡
            TLMB
            740 – 860
            R > 99.0% from 740 – 860nm
            25.0-101.6
            λ/10
            40-20
            8 J/cm2, 300 ps, 20Hz   at 800nm
            金屬鍍膜反射鏡
            VUVA
            157 – 190
            R > 85% at 157nm by   design
            25.4-50.8
            λ/10
            40-20
            低功率應用
            DUVA
            193 – 1200
            R > 90% at 193nm
            Ravg≥   85% at 400 – 1200nm
            12.7-50.8
            λ/10
            40-20
            PAUV
            250 – 600
            Ravg ≥ 85% (250 – 600nm)
            12.7-76.2
            λ/10
            40-20
            PAV
            400 – 800
            Ravg ≥ 87% (400 – 800nm)
            12.7-76.2
            λ/10
            40-20
            EAV
            450 – 650
            Ravg ≥ 92% (450 – 650nm)
            12.7-76.2
            λ/10
            40-20
            PS
            400 – 20,000
            Ravg ≥ 95% (400nm to   20 µm)
            12.7-76.2
            λ/10
            40-20
            PG
            650 – 20,000
            Ravg ≥ 95.5% (650 – 1700nm)
            Ravg ≥ 98.0% (2 – 16 µm)
            12.7-76.2
            λ/10
            40-20
            注：如需詳細規(guī)格參數資料，或有其他要求，請聯系我們。

            
						
            
					
            
										
										
            
						
						  
            
							
            免責聲明
            
						  
            
						  
              
							
            • 
							凡本網注明“來源：化工儀器網”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品，未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的，應在授權范圍內使用，并注明“來源：化工儀器網”。違反上述聲明者，本網將追究其相關法律責任。
              • 
							
            • 本網轉載并注明自其他來源（非化工儀器網）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
              • 
							
            • 如涉及作品內容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內與本網聯系，否則視為放棄相關權利。
              • 
						  
            
					
            
				
            
			
            
		
            
	
            

	


 
            
		
		
	
            	
            
			
            
				
            企業(yè)未開通此功能
            
				
            詳詢客服 : 0571-87858618