工業(yè)級(jí)光柵檢測(cè):卓立四軸定位系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)微米級(jí)精度與效率雙飛躍
當(dāng)你的 VR 眼鏡出現(xiàn)模糊時(shí), 問題可能藏在納米級(jí)光柵里
消費(fèi)者抱怨 AR 設(shè)備畫面不清晰? 工業(yè)質(zhì)檢員反復(fù)校準(zhǔn)色度計(jì)?這些問題的根源往往指向光柵元件的微觀缺陷——
?納米級(jí)的周期誤差 可導(dǎo)致意想不到的光線傳輸
?K 矢量畸變 引發(fā)光線傳播串?dāng)_,造成成像模糊 、色偏
?傳統(tǒng)接觸式測(cè)量 劃傷鍍膜層 、精度低 、無法精確測(cè)試 K 矢量卓立光柵測(cè)試系統(tǒng) ,重新定義納米級(jí)光柵器件的質(zhì)量基線
設(shè)備內(nèi)部實(shí)拍
一 、 Littrow 結(jié)構(gòu)+糾偏算法 :破解衍射光柵的"基因密碼"
Littrow 結(jié)構(gòu)示意圖
▌λ/10000--0.02nm 級(jí)光柵周期解析精度
基于 Littrow 自準(zhǔn)式入射結(jié)構(gòu), 系統(tǒng)通過精密調(diào)整入射角與衍射光強(qiáng)反饋, 實(shí)現(xiàn) 0.02nm 級(jí) 光柵周期測(cè)試靈敏度 。相較傳統(tǒng)透射電子顯微鏡 、 原子力顯微鏡分析法, 分辨率提升 100倍。
▌0.005° --K 矢量高精度測(cè)試
獨(dú)*算法實(shí)時(shí)解算光柵面內(nèi) K 矢量角度, K 矢量精度可達(dá) 0.005° , 全面監(jiān)測(cè)光柵器件面內(nèi) K 矢量異常 。某 AR 光波導(dǎo)客戶借此將產(chǎn)品調(diào)試周期從 48 小時(shí)縮短至 6 小時(shí)。
▌支持多種光柵參數(shù)測(cè)試
光柵測(cè)試系統(tǒng)支持多類型光柵測(cè)試,包括 :閃耀光柵、反射全息光柵、透射全息光柵和布拉 格體全息光柵等 。助力 VR 、AR 行業(yè)客戶 。(實(shí)際使用請(qǐng)咨詢)
二、硬核技術(shù)矩陣:實(shí)驗(yàn)室精度,工業(yè)級(jí)可靠性
?卓立四軸軸微米級(jí)定位系統(tǒng)
位移軸光柵尺反饋,重復(fù)定位精度±3μm,閉環(huán)分辨率:1μm
旋轉(zhuǎn)軸光柵尺反饋,重復(fù)定位精度±0.003°,閉環(huán)分辨率:0.000152°
支持Φ254mm 超大光柵片全域 mapping,40s 完成單點(diǎn)測(cè)量,較手動(dòng)調(diào)節(jié)效率提升 50 倍。
光柵 mapping 結(jié)果
三、從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線:全場(chǎng)景解決方案
?科研模式
開放 API 接口,支持自定義測(cè)量 Recipe,支持自定義數(shù)據(jù)處理。
?工業(yè)模式
真空吸附,自動(dòng)上下料,無縫對(duì)接 MES/QMS 系統(tǒng),全自動(dòng)檢測(cè)
四 、 系統(tǒng)關(guān)鍵參數(shù)一覽表
單點(diǎn)周期重復(fù)精度 | ≤0.02nm |
單點(diǎn)周期絕對(duì)精度 | ≤ ±0.1nm |
單點(diǎn)光柵面內(nèi)矢量角絕對(duì)精度 | ≤±0.01° |
單點(diǎn)光柵面內(nèi)矢量角重復(fù)精度 | ≤±0.005° |
單點(diǎn)測(cè)試時(shí)間 | 45s |
可測(cè)光柵類型 | 反/透全息光柵 、 閃耀光柵 、全息體光柵 |
可測(cè)光柵尺寸 | 小于 8 英寸(支持定制) |
五 、全面的軟件功能 ,友好的軟件界面
六 、完整與快速的服務(wù)網(wǎng)絡(luò)
?資質(zhì)認(rèn)證 :卓立漢光以自主研發(fā)為核心,深耕光電儀器領(lǐng)域 26 年,公司布局全球化市場(chǎng) 通過高精度產(chǎn)品和定制化解決方案,服務(wù)于高校、科研院所及工業(yè)客戶,助力光電領(lǐng)域的技術(shù)探索
?服務(wù)保障 :技術(shù)和服務(wù)團(tuán)隊(duì)超 300 人,在上海 、深圳 、北京 、成都 、西安 、長春 、鄭州有限分公司,提供“終身保固”承諾,確保產(chǎn)品可靠性與售后服務(wù)響應(yīng)速度。
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