氧化鋯分析器的原理基于固體電解質(zhì)的電化學(xué)特性,通過(guò)氧濃差電池效應(yīng)實(shí)現(xiàn)氧濃度測(cè)量。具體原理如下:
1. ?導(dǎo)電機(jī)理?
純氧化鋯(ZrO?)在常溫下不導(dǎo)電,但摻雜氧化鈣(CaO)、氧化釔(Y?O?)等低價(jià)金屬氧化物后,晶體內(nèi)部形成“氧空穴”缺陷結(jié)構(gòu),高溫下(通常需加熱至600-1000℃)具備氧離子導(dǎo)電性。
2. ?氧濃差電池效應(yīng)?
氧化鋯管兩側(cè)分別接觸參比氣體(如空氣,氧濃度已知)和被測(cè)氣體(如煙氣),當(dāng)兩側(cè)氧分壓不同時(shí):
高氧分壓側(cè)的氧分子在鉑電極表面獲得電子,轉(zhuǎn)化為氧離子(O2?),通過(guò)氧化鋯晶格中的氧空穴遷移至低氧分壓側(cè);
遷移的氧離子在低氧分壓側(cè)的鉑電極釋放電子,重新結(jié)合為氧分子,形成閉合回路。
此過(guò)程產(chǎn)生的電勢(shì)差(氧濃差電勢(shì))遵循能斯特方程:
E = (RT/4F) ln(P?/P?)?
其中,P?、P?為兩側(cè)氧分壓,R為氣體常數(shù),T為絕對(duì)溫度,F為法拉第常數(shù)。
3. ?溫度控制?
氧化鋯的氧離子導(dǎo)電性對(duì)溫度敏感,需通過(guò)內(nèi)置加熱裝置和溫控系統(tǒng)維持恒定高溫(如650-750℃),以確保測(cè)量精度。
4. ?信號(hào)處理與輸出?
氧濃差電勢(shì)經(jīng)信號(hào)處理電路轉(zhuǎn)換為標(biāo)準(zhǔn)電信號(hào),通過(guò)溫度補(bǔ)償和校準(zhǔn)后顯示為氧濃度值,或傳輸至控制系統(tǒng)用于燃燒優(yōu)化。
結(jié)構(gòu)組成
氧化鋯分析器主要包括:氧化鋯管(固體電解質(zhì))、鉑電極(參比電極與測(cè)量電極)、加熱爐、溫度傳感器及控制器、信號(hào)處理模塊。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。