原理：通過氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在高溫、真空環(huán)境下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在半導(dǎo)體晶圓表面沉積一層固態(tài)薄膜。

作用：真空泵用于維持反應(yīng)腔室的真空環(huán)境，精確控制反應(yīng)腔室的壓力，使氣態(tài)反應(yīng)物能夠均勻地分布在晶圓表面，保證薄膜沉積的均勻性和一致性，同時(shí)防止雜質(zhì)混入薄膜中，影響半導(dǎo)體器件的性能。例如，在沉積二氧化硅薄膜用于芯片的絕緣層時(shí)，需要通過真空泵將腔室壓力控制在合適范圍，以獲得高質(zhì)量的絕緣薄膜。

原理：通過物理過程，如蒸發(fā)、濺射等，將金屬或其他材料沉積在半導(dǎo)體晶圓表面形成薄膜。

作用：在蒸發(fā)鍍膜過程中，真空泵迅速抽出腔室內(nèi)的空氣，使蒸發(fā)的金屬原子能夠在真空中自由飛行并均勻地沉積在晶圓表面。在濺射鍍膜時(shí)，真空泵維持真空環(huán)境，保證濺射粒子能夠高效地到達(dá)晶圓表面，同時(shí)避免氣體分子對濺射粒子的散射和干擾，從而精確控制薄膜的厚度和質(zhì)量，以滿足半導(dǎo)體器件對不同金屬薄膜的性能要求。

原理：利用化學(xué)或物理方法有選擇地去除半導(dǎo)體晶圓表面的材料，形成精確的圖案和結(jié)構(gòu)。

作用：真空泵在刻蝕過程中起著關(guān)鍵作用，一方面它要快速抽出反應(yīng)產(chǎn)生的廢氣，保持腔室內(nèi)的清潔，防止廢氣積聚影響刻蝕效果；另一方面要精確控制腔室壓力，確?？涛g氣體能夠均勻地作用于晶圓表面，實(shí)現(xiàn)高精度的刻蝕，保證半導(dǎo)體器件的微小結(jié)構(gòu)如晶體管、互連線等能夠被準(zhǔn)確地制造出來。

原理：將特定離子加速并注入到半導(dǎo)體晶圓中，以改變半導(dǎo)體的電學(xué)性質(zhì)，形成不同的區(qū)域，如 P 型和 N 型半導(dǎo)體區(qū)域，從而制造出各種半導(dǎo)體器件。

作用：真空泵用于維持離子注入系統(tǒng)的真空環(huán)境，避免離子在傳輸過程中與空氣分子發(fā)生碰撞而散射，保證離子能夠準(zhǔn)確地注入到晶圓的預(yù)定位置，并且具有精確的能量和劑量分布，從而實(shí)現(xiàn)對半導(dǎo)體器件性能的精確調(diào)控。

原理：將兩片或多片晶圓通過物理或化學(xué)方法緊密結(jié)合在一起，形成多層結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件。

作用：在晶圓鍵合過程中，真空泵首先將鍵合腔室抽至真空狀態(tài)，去除晶圓表面的氣體和雜質(zhì)，使晶圓表面能夠更好地接觸和貼合。然后在真空環(huán)境下施加一定的壓力和溫度，促進(jìn)晶圓之間的化學(xué)鍵合，提高鍵合強(qiáng)度和質(zhì)量，確保多層晶圓之間的電氣連接和機(jī)械穩(wěn)定性，滿足半導(dǎo)體器件的高性能要求。