奧林巴斯顯微鏡

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冷凍斷裂裝置技術(shù)應(yīng)用

奧林巴斯顯微鏡的斷裂在特殊的冷凍斷裂儀中進(jìn)行。冷凍斷裂儀有多種商品出售，其

復(fù)雜程度也有很大差別，

但原理都是相同的，

它們都是一個(gè)真空噴鍍儀和一個(gè)冷凍斷裂裝置

組成的。現(xiàn)以本室的日立

HHS

一

5GB

冷凍斷裂儀為例說(shuō)明其原理。

  奧林巴斯顯微鏡的冷凍斷裂裝置。其主要部件有兩個(gè)：刀座和樣品座，均由導(dǎo)熱良

好的銅制成。

刀座上安置一刀片，

它可沿樣品座上的導(dǎo)軌順斜面下滑。

樣品座上可安放樣品

杯。當(dāng)拉動(dòng)塑料支撐塊時(shí)，刀座下滑，將樣品切斷。在刀座上方與前方各有一孔，供噴鉑與

噴碳用。樣品座上可裝上蝕到加溫器，使樣品升溫。刀座前還有一隔熱板，

以阻擋噴鍍時(shí)的

熱輻射。為保證整個(gè)裝置有良好的導(dǎo)熱、

滑動(dòng)與切斷性能，每次使用前均應(yīng)認(rèn)真擦拭，

除去

上面的油污、水份和氧化層。必要時(shí)可用拋光膏，丙酮清洗表面。

  奧林巴斯顯微鏡使用時(shí)，將刀座和樣品座置入液氮中冷凍待液氯停止沸騰后，取出，

并在室溫下迅速將經(jīng)過(guò)冷凍的樣品連同樣品杯一

‘

起裝到樣品座亡，再將刀座放在樣品座導(dǎo)

軌上方，下面墊以塑料文撐塊，

插攢舶入隔熱板，

然后將整個(gè)裝置再次故人液氮冷卻。

待液

氯沸騰停止，

立即提出，

放到真空明鍍儀的噴鍍臺(tái)上，

技上支撐塊的拉繩，

接通溫度控制器，

蓋放真空罩開始抽真空。

 奧林巴斯顯微鏡真空噴銨儀內(nèi)的真空度達(dá)到樣品溫度時(shí)，通過(guò)快門把手迅速拉動(dòng)真

空罩內(nèi)的支撐塊，

刀座即從樣品座的斜面上滑下，

并將樣品切斷，

在樣品杯內(nèi)留下一個(gè)帶裂

面的樣品。

 有時(shí)奧林巴斯顯微鏡需要研究腹表面的結(jié)構(gòu)，這就要使樣品慢慢升溫，令冰升華，把

膜內(nèi)外表面暴露出來(lái)，這一過(guò)程稱為蝕到。蝕刻速度與溫度和真空度有關(guān)。

具體作法是，在

樣品斷裂后．在的真空度下，用蝕刻加溫器使樣品溫度慢慢升至，并在該條件下維持

3

一

10

分鐘。

奧林巴斯顯微鏡的斷裂或蝕刻后的樣品均需噴鍍。

噴鍍的目的是在暴露的樣品表面造成

一個(gè)連續(xù)的，具有足夠反差并富有立體感的薄膜，印制備樣品表面的復(fù)型。

 奧林巴斯顯微鏡噴鍍分兩步進(jìn)行。

先在與樣品成

45

。

A

的方向通過(guò)噴鉑孔噴鍍。

為此，

先要在的真空度下，使帶有鑰珠的碳棒預(yù)熱，再加大電流使鉑在

2

—

3

秒鐘內(nèi)熔融氣化，當(dāng)

剛剛出現(xiàn)碳花時(shí)，即終止通電。第：

：步為噴碳，其噴鍍方向與樣品表面垂直。每次噴碳時(shí)

間為

1

秒，

總計(jì)可噴

4

—

5

次。

每次間隔

3

—

4

秒。

間歇噴碳的目的是防止樣品因過(guò)熱而發(fā)生

蝕刻。噴碳是為了在樣品表面形成一個(gè)連續(xù)的膜。噴鉑與噴碳的方向。

 以上所述的奧林巴斯顯微鏡冷凍超薄切片制備法適用于形態(tài)，

細(xì)胞化學(xué)或免疫標(biāo)記研

究。

制備過(guò)程中樣品要通過(guò)一系列的水溶性介質(zhì)，

可稱為濕法。

濕法會(huì)使樣品中的可溶性成

份流失，因此不能用于這些成份的研究。

為研究紹胞中的可擴(kuò)散的，水溶性成份，

應(yīng)當(dāng)使用

于法制備超薄切片。