*,超純水中雜質(zhì)會對器件帶來一系列的不利影響!所以,如何確定超純水系統(tǒng)流程以保證生產(chǎn)設(shè)備對超純水水質(zhì)的要求就成為超純水系統(tǒng)所要解決的首要問題。
   集成電路工廠的純水制備系統(tǒng)應(yīng)根據(jù)原水水質(zhì)及工藝生產(chǎn)設(shè)備要求的超純水水質(zhì)來確定，一般由下列4部分組成：預(yù)處理系統(tǒng)、一次純水處理系統(tǒng)、超純水制取系統(tǒng)、回收水系統(tǒng)
　預(yù)處理的目的是去除水中所含的懸浮物、膠體、高分子有機物等雜質(zhì)。需要指出的是，活性炭對去除TOC有非常好的效果，但它也往往成為微生物的滋生地。因此，在預(yù)處理系統(tǒng)中采用活性炭處理單元時，應(yīng)將活性炭處理單元的進水調(diào)成酸性，以防止微生物滋生。
　在超純水制備的一次純水處理系統(tǒng)中，往往要使用反滲透裝置(RO)，且反滲透膜多以交聯(lián)芳香族聚酰胺復(fù)合膜為主，這類膜的不足之處在于：抗氧化性差，氧化性物質(zhì)能導(dǎo)致膜聚合物分解，而活性炭恰恰對水中余氯、過氧水等氧化性物質(zhì)有良好的去除效果。因此，在超大規(guī)模集成電路超純水制備的預(yù)處理系統(tǒng)中采用活性炭處理單元是十分必要的。一次純水處理系統(tǒng)的目的是對預(yù)處理系統(tǒng)的出水進一步進行處理，代表性的裝置有反滲透、混合離子交換、一級膜脫氣、EDI(電再生脫鹽)、UV(紫外線)、一級拋光等。其中，反滲透、UV進一步去除一次純水處理系統(tǒng)下來的TOC;混合離子交換既可去除一次純水處理系統(tǒng)下來的TOC，也可去除SiO2;利用膜脫氣對預(yù)處理水中的溶解氧進行處理;一級拋光采用高純樹脂，用來處理金屬離子。
　超純水制取系統(tǒng)是為了去除一次純水處理系統(tǒng)中殘留的微量雜質(zhì)而設(shè)置的，值得注意的是，超純水制取系統(tǒng)在去除水中各種雜質(zhì)的同時，如何保證去除設(shè)備因自身材質(zhì)而引起的污染應(yīng)引起人們的高度關(guān)注。也就是說，一個完整的超純水系統(tǒng)，不但要有合理的制水流程，而且還要對每個處理設(shè)備自身的微量溶出問題進行研究。此外，超純水的輸送方法，配管、閥門材質(zhì)的選定也應(yīng)引起人們的高度重視。
　超大規(guī)模集成電路清洗設(shè)備要求的水質(zhì)幾乎均為超純水，這些清洗設(shè)備用水點的排水幾乎全部可以回收，經(jīng)回收處理后的水一部分可以作為冷卻塔和廢氣洗滌塔的補水，另一部分可以與超純水制備預(yù)處理系統(tǒng)的出水一起進入預(yù)處理水池，作為超純水制備的補充水。目前，在實際工程中，水的回收率可以達到70%。要使回收水系統(tǒng)達到良好的處理效果，除了需要確定合理的處理流程外，生產(chǎn)設(shè)備排水的分類收集也是非常重要的，這樣做，可以防止高濃度TOC和其他不純物質(zhì)進入回收水系統(tǒng)。