Filmetrics F20便攜式膜厚測試儀 Filmetrics簡介 世界*,經(jīng)濟有效的Filmetrics薄膜厚度測量系統(tǒng),測量薄膜厚度僅需幾秒鐘。 Filmetrics 膜厚測試儀產(chǎn)品輕點鼠標就能測量1納米到13毫米的薄膜厚度。幾乎所有的材料都可以被測量。直觀的設(shè)計意味著您能在幾分鐘內(nèi)完成*個薄膜厚度測量! 1.只需要運行基于Windows的軟件,連接Filmetrics設(shè)備,然后,開始測量。 2.方便地存儲或輸出詳細測量資料。 3.快速地將我們的厚度測量系統(tǒng)與其它系統(tǒng)通過.NET軟件整合。 每秒兩個點薄膜測繪F20 薄膜厚度的測量系統(tǒng) 測量反射率和透射率 測量光斑小至1微米(μm) 每秒兩個點薄膜測繪 自動晶圓處理系統(tǒng) Filmetrics F20產(chǎn)品簡介: 1 有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm); 2 zui大樣品薄膜厚度的測量范圍是:3nm ~ 25um; 3 精度為好于0.1nm。 產(chǎn)品特性: 1 、操作簡單、使用方便; 2 、測量快速、準確; 3 、體積小、重量輕; 4 、價格便宜。 Filmetrics F20產(chǎn)品應(yīng)用: 1 、半導體行業(yè): 光阻、氧化物、氮化物; 2 、LCD 行業(yè): 液晶盒間隙厚度、 Polyimides;用f20來測量透明的藍寶石上的光刻膠,ito,多層氧化硅氧化鈦等薄膜厚度,該機操作簡易,毫秒間就能測量出準確的數(shù)據(jù)。 3 、光電鍍膜應(yīng)用: 硬化膜、抗反射膜、濾波片。 Filmetrics F20的技術(shù) 我們通過分析光如何從薄膜反射來測量薄膜厚度。通過分析肉眼看不見的光譜我們能測量幾乎所有超過100原子厚度的非金屬薄膜。因為不涉及任何移動設(shè)備,幾秒鐘之內(nèi)就能測出:薄膜厚度,折射率,甚至粗燥度! 其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩(wěn)定性高達0.7埃,測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選??蓱?yīng)用領(lǐng)域包括:生物醫(yī)學(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。 通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術(shù),zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測得。其應(yīng)用廣泛,例如 : 半導體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。 LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps),ito電極、polyimide 保護膜。 光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。 極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點,F(xiàn)ilmetrics提供以下型號以供選擇: F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū) 至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型,可以實現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測量。 F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口??蓪崟r監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區(qū)或標準波長可供選擇。 F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供zui小5um光點(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。 F50:這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。 F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭,使用Filmetrics的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至3.5mm。 F10-RT:在F20實現(xiàn)反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設(shè)計特別適用于透明基底樣品的測量。 PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70?光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。 膜厚測量儀系統(tǒng)F20 使用F20分光計系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學參數(shù)(n和k)。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個桌面系統(tǒng)組裝起來。 F20包括所有測量需要的部件:分光計、光源、光纖導線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。 膜層實例 幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括: sio2(二氧化硅) sinx(氮化硅) dlc(類金剛石碳)photoresist(光刻膠) polyer layers(高分子聚合物層) polymide(聚酰亞胺) polysilicon(多晶硅) amorphous silicon(非晶硅) 基底實例:對于厚度測量,大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數(shù)測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。 包括: silicon(硅) glass(玻璃) aluminum(鋁)gaas(砷鎵) steel(鋼) polycarbonate(聚碳酸脂) polymer films(高分子聚合物膜) 應(yīng)用 半導體制造 | 液晶顯示器 | 光學鍍膜 | photoresist光刻膠 oxides氧化物 nitrides氮化物 | cell gaps液晶間隙 polyimide聚酰亞胺 ito納米銦錫金屬氧化物 | hardness coatings硬鍍膜 anti-reflection coatings增透鍍膜 filters濾光 |
f20 使用仿真活動來分析光譜反射率數(shù)據(jù)。 標準配置和規(guī)格 | F20-UV | F20 | F20-NIR | F20-EXR | 只測試厚度 | 1nm ~ 40μm | 15nm ~ 100μm | 100nm ~ 250μm | 15nm ~ 250μm | 測試厚度和n&k值 | 50nm and up | 100nm and up | 300nm and up | 100nm and up | 波長范圍 | 200-1100nm | 380-1100nm | 950-1700nm | 380-1700nm | 準確度 | 大于 0.4% 或 2nm | 精度 | 1A | 2A | 1A | 穩(wěn)定性 | 0.7A | 1.2A | 0.7A | 光斑大小 | 20μm至1.5mm可選 | 樣品大小 | 1mm至300mm 及更大 | 探測器類型 | 1250-元素硅陣列 | 512-元素 砷化銦鎵 | 1000-元素 硅 & 512-砷化銦鎵陣列 | 光源 | 鎢鹵素燈,氚燈 | 電腦要求 | 60mb 硬盤空間 50mb 空閑內(nèi)存 usb接口 | 電源要求 | 100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a |
美國Filmetrics薄膜測厚儀代理公司 美國Filmetrics F-20 F-30 F-40等等價格好,貨期短。 
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