鹽霧腐蝕試驗箱的曝露方法,不應將鹽霧腐蝕試驗箱試板放置在霧粒從噴嘴出來的直線軌跡上。每塊試板的受試表面朝上,與垂線夾角是20°±5°。(注:曝露于鹽霧箱中的每塊試板的置放角度是很重要的)
當有不同形狀的涂漆工件試驗時,曝露方法由有關方面商定。進行這種試驗時,特別重要的是應將這些不同形狀的部件按其正常狀態(tài)放置。在此要求下,部件放置應盡可能避免妨礙氣流的流動。如果部件妨礙了氣流的流動,其他試板和部件則不能同時進行試驗。
試板涂層的破壞程度隨放置的方位不同而不同,對此應給予適當?shù)目紤]。
鹽霧試驗箱試板的排列應不使其互相接觸或與箱體接觸,受試表面應曝露在鹽霧能*地沉降的地方。
鹽霧試驗箱內(nèi)的應為(35±2)℃。對面積為80㎝2的水平噴霧收集裝置來說,在zui小周期為24h側得的鹽霧溶液的平均收集速率應為1mL/h~2.5mL/h。收集到的溶液的氯化鈉濃度應為(50±10)g/L,pH值應為6.5~7.2。已噴霧過的試驗溶液不應重復使用。
應進行兩次平行測定;按規(guī)定的條件,進行調(diào)試。將試板(或部件)排放在鹽霧試驗箱內(nèi)。關閉鹽霧試驗箱并使試驗溶液通過噴嘴開始流動。在整個規(guī)定試驗周期內(nèi)應連續(xù)噴霧。因為檢查、重新排列或取出試板;檢查和補充貯槽中的溶液;以及檢查是否滿足規(guī)定的條件等而短時間的日常中斷除外。
當有不同形狀的涂漆工件試驗時,曝露方法由有關方面商定。進行這種試驗時,特別重要的是應將這些不同形狀的部件按其正常狀態(tài)放置。在此要求下,部件放置應盡可能避免妨礙氣流的流動。如果部件妨礙了氣流的流動,其他試板和部件則不能同時進行試驗。
試板涂層的破壞程度隨放置的方位不同而不同,對此應給予適當?shù)目紤]。
鹽霧試驗箱試板的排列應不使其互相接觸或與箱體接觸,受試表面應曝露在鹽霧能*地沉降的地方。
鹽霧試驗箱內(nèi)的應為(35±2)℃。對面積為80㎝2的水平噴霧收集裝置來說,在zui小周期為24h側得的鹽霧溶液的平均收集速率應為1mL/h~2.5mL/h。收集到的溶液的氯化鈉濃度應為(50±10)g/L,pH值應為6.5~7.2。已噴霧過的試驗溶液不應重復使用。
應進行兩次平行測定;按規(guī)定的條件,進行調(diào)試。將試板(或部件)排放在鹽霧試驗箱內(nèi)。關閉鹽霧試驗箱并使試驗溶液通過噴嘴開始流動。在整個規(guī)定試驗周期內(nèi)應連續(xù)噴霧。因為檢查、重新排列或取出試板;檢查和補充貯槽中的溶液;以及檢查是否滿足規(guī)定的條件等而短時間的日常中斷除外。
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權利。