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            • 03-202025
              PE激光拉曼光譜數(shù)據(jù)處理技巧與分析方法

              PE激光拉曼光譜數(shù)據(jù)處理技巧與分析方法涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟,以下是詳細(xì)的說明:一、數(shù)據(jù)預(yù)處理數(shù)據(jù)預(yù)處理是拉曼光譜數(shù)據(jù)分析的基礎(chǔ),主要包括去噪、平滑、歸一化等操作。1.去噪:拉曼光譜數(shù)據(jù)中常含有高頻噪聲,這

            • 03-192025
              NexION 5000 ICP-MS測試硝酸稀釋液中超痕 量的磷、硫、硅及碘

              1.前言采用PerkinElmer的UCT技術(shù)(通用池技術(shù)),進(jìn)一步強(qiáng)化DRC(動(dòng)態(tài)反應(yīng)池)功能的NexION5000ICP-MS是目前既先進(jìn),性能優(yōu)異的,市面上多重四級桿ICP-MS(QQQQ)。不

            • 03-182025
              利用NexION 2000 ICP-MS對半導(dǎo)體級鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

              引言在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過程中,許多流程中都要用到各種酸類試劑。其中最重要的是鹽酸(HCl),其主要用途是與過氧化氫和水配制成混合物用來清潔硅晶片的表面。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小,其生產(chǎn)中使用的試劑純

            • 03-172025
              如何進(jìn)行PerkinElmer紫外分光光度計(jì)的日常維護(hù)?

              進(jìn)行PerkinElmer紫外分光光度計(jì)的日常維護(hù),是確保其長期穩(wěn)定運(yùn)行和準(zhǔn)確測量的關(guān)鍵。以下是一些具體的日常維護(hù)步驟和建議:一、清潔與除塵1.外部清潔:定期用干凈的軟布擦拭儀器表面,去除塵土和污漬。

            • 03-172025
              利用單顆粒ICP-MS在反應(yīng)模式下測定半導(dǎo)體有機(jī)溶劑中的 含鐵納米顆粒

              簡介半導(dǎo)體產(chǎn)品中的金屬污染使產(chǎn)品品質(zhì)降低。半導(dǎo)體寬度越小,對金屬污染物的容忍度越低。最常見的金屬污染是過渡金屬元素和堿金屬元素。過渡金屬元素往往遍布半導(dǎo)體材料中并在表面形成多多種氧化物,其中鐵是最常見

            • 03-142025
              NexION 300S ICP-MS測定硅晶 片中的雜質(zhì)

              引言控制硅基半導(dǎo)體器件中的雜質(zhì)含量是至關(guān)重要的,因?yàn)榧词故浅哿康碾s質(zhì)(包括堿和堿土元素、過渡金屬)都可能會(huì)導(dǎo)致器件發(fā)生缺陷,如擊穿電壓或高暗電流。出于質(zhì)量控制的目的,常規(guī)分析的硅主要有兩種類型:體硅

            • 03-132025
              NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硝酸中的雜質(zhì)

              引言目前,由于半導(dǎo)體器件在設(shè)計(jì)時(shí)都選擇更小的線寬,因此就更容易受到低濃度雜質(zhì)的影響。在半導(dǎo)體工業(yè)中,硝酸(HNO3)被廣泛用來與氫氟酸(HF)配制混酸,改變限擴(kuò)散或限速率的蝕刻。這兩種酸配成的混酸常被

            • 03-122025
              NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硫酸中的雜質(zhì)

              前言制造半導(dǎo)體器件包括在基板上形成一個(gè)犧牲層。通常,犧牲層由一個(gè)圖形化的光阻層組成,這樣就可以使離子注入基板,之后再用一種濕式蝕刻溶液來消除圖形化的光阻層。通常情況下,蝕刻液由硫酸(H2SO4)和過氧

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