當(dāng)前位置:賽默飛世爾環(huán)境與過程>>技術(shù)文章展示
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當(dāng)前位置:賽默飛世爾環(huán)境與過程>>技術(shù)文章展示
2022
01-25滿足越來越嚴(yán)苛的電子氣體質(zhì)量要求,從源頭提升半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝
從去年開始“缺芯”一直困擾著眾多工業(yè)行業(yè)的發(fā)展,尤其是汽車行業(yè)受到的干擾更為突出。全球芯片代工廠都在滿產(chǎn)運(yùn)轉(zhuǎn),各大半導(dǎo)體供應(yīng)商無不開足馬力提升產(chǎn)量,擴(kuò)展產(chǎn)能,提高未來市場話語權(quán)。而在半導(dǎo)體眾多工藝過程中,集成電路、液晶面板、LED及光伏等材料的電子氣體所扮演的角色也越發(fā)不能忽視。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標(biāo)和成品率,并從根本上制約著電路和器件的精確性和準(zhǔn)確性。隨著電子消費(fèi)品的升級換代,整個(gè)電子工業(yè)界對電子氣體氣源純度,以及杜絕輸送系統(tǒng)二次污染的要求越2022
01-252022
01-252022
01-252022
01-25環(huán)保更合規(guī)!重在精準(zhǔn)提高氧化鋯的測量
氧含量在固定污染源煙囪排口CEMS中屬于必測因子。由于CEMS中測量的氣態(tài)污染物及顆粒物的排放濃度需要帶氧折算,石化行業(yè)硫磺回收裝置基準(zhǔn)氧含量按3%考慮(見下式)。折算后的排放濃度再上傳至環(huán)保部門,所以氧的測量尤為重要。目前氧的測量在CEMS中常見的測量原理有3種,原位氧化鋯、抽取電化學(xué)及抽取磁氧。上述公式中:C折——折算成實(shí)際過量空氣系數(shù)時(shí)的污染物排放濃度Csn干——污染物標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下干基質(zhì)量濃度CVO2干——排放煙氣中含氧量干基體積濃度CO2S——污染物排放標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的該行業(yè)基準(zhǔn)含氧量在某些石2022
01-182022
01-182022
01-18【干貨分享】淺談氨法脫硫工藝中稀釋抽取式濕度計(jì)對工藝控制的幫助
在CEMS(煙氣連續(xù)排放監(jiān)測)系統(tǒng)中,濕度測量往往由于傳感器壽命短,校準(zhǔn)困難等問題,大多數(shù)情況下,工藝操作人員都對其測量數(shù)據(jù)存疑,很少從工藝角度分析數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,分析結(jié)果也幾乎不會用于工藝控制的參考。稀釋抽取式濕度計(jì),由于在樣品抽取時(shí)已經(jīng)完成了大比例的稀釋,樣氣中的濕度和顆粒物含量都極低,所以其運(yùn)行條件好,傳感器壽命長,且方便校零。在氨法脫硫工藝的實(shí)際使用中,稀釋法煙氣連續(xù)排放監(jiān)測系統(tǒng)中配置的抽取式濕度計(jì),因其良好的性能和極少的維護(hù)量,既能滿足法規(guī)要求的污染物排放監(jiān)測功效,又能幫助工藝人員實(shí)現(xiàn)對2022
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