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2023
09-11原位拉曼系統(tǒng)--實時監(jiān)測半導(dǎo)體薄膜生長全過程
原位拉曼系統(tǒng)--實時監(jiān)測半導(dǎo)體薄膜生長全過程在半導(dǎo)體工藝中，薄膜沉積是在半導(dǎo)體原材料硅晶圓上分階段生長薄膜的核心工藝。它在半導(dǎo)體電路之間起到區(qū)分、連接和保護(hù)作用。由于其厚度非常薄，在晶圓上形成均勻地薄膜具有很高的難度。所以在化學(xué)沉積過程中，確認(rèn)薄膜材料是否正常生長，以及能否產(chǎn)生所需的特定物性，就非常重要。為了確保薄膜沉積按照預(yù)期進(jìn)行，通常將已長成的薄膜從真空化學(xué)氣相沉積（CVD）腔室中取出，然后用分析儀器進(jìn)行檢查。它被稱為“Ex-Situ”方法，是從外部而不是在腔室內(nèi)部進(jìn)行分析。但是，從真空室中2023
09-062023
09-052023
09-052023
09-052023
08-282023
08-22焦點光斑分析儀的選型指南：激光3D打印應(yīng)用領(lǐng)域（SLA&SLM）
焦點光斑分析儀的選型指南：激光3D打印應(yīng)用領(lǐng)域（SLA&SLM）為了使用基于激光的增材制造工藝創(chuàng)造出一致的、堅固的結(jié)構(gòu)，以滿足航空航天標(biāo)準(zhǔn)或醫(yī)療設(shè)備的FDA要求，需要已知尺寸、功率密度和焦點位置的激光束是必需的。高質(zhì)量的3D激光打印工藝需要激光器提供正確的功率，正確分布并集中在正確的位置。為了確保部件的一致性和結(jié)構(gòu)的合理性，這些參數(shù)應(yīng)該在制造任何關(guān)鍵部件前后可以直接測量，極大地幫助光學(xué)工程師分析設(shè)備光路中產(chǎn)生的各種問題。德國Cinogy焦點光斑分析儀是基于相機(jī)式原理測量光斑形狀，分析光斑數(shù)據(jù)；相2023
08-222023
07-312023
07-13DMD空間光調(diào)制器V-7001VIS (九折優(yōu)惠)
DMDV-7001VIS(限shi九折優(yōu)惠)-來了！DMD(DigitalMicromirrorDevice,譯為：數(shù)字微鏡陣列)是一款具有高分辨率、高對比度、高亮度以及高灰階及色彩保真度、響應(yīng)速度快且可靠性高等顯著優(yōu)點的光機(jī)電產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用在光場調(diào)控、三維測量、超分辨成像等領(lǐng)域。為了更好的服務(wù)以及加深與國內(nèi)客戶的合作，對于V-7001VIS特定型號的DMD產(chǎn)品，昊量光電推出“限shi九折優(yōu)惠“服務(wù)。(7月1-9月30日)圖1V-7001VISDMD產(chǎn)品圖示超高速V-7001VISDMD空間光調(diào)2023
07-12M-axis永磁體特性全新表征方法-高精度磁偏角磁矩快速確定！
M-axis永磁體特性全新表征方法-高精度磁偏角磁矩快速確定！永磁體廣泛用于傳感器和電機(jī)應(yīng)用。除此之外，磁場還用于信息存儲和文件欺詐保護(hù)等應(yīng)用。隨著關(guān)鍵應(yīng)用程序數(shù)量的持續(xù)增加，開發(fā)商和生產(chǎn)商越來越被迫滿足安全要求，并提高技術(shù)的整體效率。為了確保zui終用戶要求的高質(zhì)量，全面的質(zhì)量控制是必要的。根據(jù)應(yīng)用，測量遠(yuǎn)場和近場的磁鐵是可能的，而且通常是必要的。在這篇文章中，我將介紹一種新的創(chuàng)新測量技術(shù)，通過雜散場測量和偶極子近似來表征遠(yuǎn)場中的磁體。昊量光電全新推出的M-axis磁偏角磁矩測試儀就是這種測量2023
07-12COMS-Magview-磁場相機(jī)背后的秘密-磁光傳感器！
COMS-Magview-磁場相機(jī)背后的秘密-磁光傳感器！磁性材料的可靠使用需要精確的磁場分布信息，例如在生產(chǎn)過程中、作為質(zhì)量管理過程的一部分以及在研發(fā)領(lǐng)域中。磁光傳感器是無損檢測磁場分布的新方法。圖1.此圖代表不同階段的磁光傳感器：初始基板、涂有MO和反射層（從左到右）現(xiàn)有磁場測量系統(tǒng)的原理基于磁場對傳感器內(nèi)電壓和電流等電學(xué)參數(shù)產(chǎn)生不同物理效應(yīng)。通過測量值和特定材料常數(shù)，可以分析磁場強(qiáng)度和通量密度。例如，在霍爾傳感器中，導(dǎo)電材料（如半導(dǎo)體材料）的霍爾效應(yīng)會產(chǎn)生一個輸出電壓——霍爾電壓——其與磁2023
07-122023
06-21【應(yīng)用案例】Moku:Pro簡化雙色受激拉曼散射顯微鏡實驗
【應(yīng)用案例】Moku:Pro簡化雙色受激拉曼散射顯微鏡實驗應(yīng)用案例Moku:Pro簡化雙色受激拉曼散射顯微鏡實驗介紹在華盛頓大學(xué),研究人員致力于雙色受激拉曼散射(SRS)顯微鏡技術(shù)研究開發(fā)化學(xué)成像工具，用于早期癌癥檢測和了解神經(jīng)退行性疾病進(jìn)展。實驗裝置通常包括多個復(fù)雜的高性能儀器,用于實時雙色SRS成像或兩個相距較遠(yuǎn)的拉曼躍遷的同步成像?，F(xiàn)在，他們正在使用Moku:Pro鎖相放大器和多儀器并行模式，僅通過Moku:Pro一臺緊湊的多通道設(shè)備進(jìn)行多種實驗并捕捉低強(qiáng)度的SRS信號。面臨挑戰(zhàn)SRS是一2023
06-12Moku云編譯 + ChatGPT: 客戶定制化需求的天花板
Moku云編譯+ChatGPT:客戶定制化需求的天花板Moku：pro不僅能夠解決大多數(shù)電學(xué)信號的測試和ji具難度的測量實驗，而且能夠支持jian端實驗，并能在設(shè)計具有du特要求的先jin產(chǎn)品時，具有優(yōu)xiu的表現(xiàn)?？茖W(xué)家和工程師們經(jīng)常會在軟件中進(jìn)行方便的離線模擬或數(shù)據(jù)處理，此時他們會通過用戶可編程FPGA找到更高性能的解決方案。然而，盡管它們很有用，但這些解決方案有時候也會很復(fù)雜且難以實現(xiàn)。MokuCloudCompile(MCC)云編譯為熟悉FPGA編程的用戶xiao除了這些障礙，使他們能夠2023
06-082023
05-292023
05-222023
04-27Up to 98%光利用率—鍍介質(zhì)鏡型純相位高速高損傷閾值SLM!
Upto98%光利用率——鍍介質(zhì)鏡型純相位高速高損傷閾值SLM！液晶空間光調(diào)制器（SLM）可以將數(shù)字化數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為適合各種應(yīng)用的相干光學(xué)信息，包括雙光子/三光子顯微成像、光鑷、自適應(yīng)光學(xué)、湍流模擬、光計算、光遺傳學(xué)和散射介質(zhì)成像等應(yīng)用。這些應(yīng)用需要能夠輕松快速地改變相干光束波前的調(diào)制器。通過將液晶材料的電光性能特征與基于硅的數(shù)字電路相結(jié)合，MeadowlarkOptics現(xiàn)在提供了高分辨率的SLM，這些SLM還具有物理緊湊性和高光學(xué)xiao率。圖一：緊湊的HSP1K（1024×1024）系列和E12023
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